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掃描電子顯微鏡的基本原理

掃描電子顯微鏡的基本原理

掃描電鏡成像過程與電視成像過程有很多相似之處, 而與透射電鏡的成像原理完全不同。透射電鏡是利用成像電磁透鏡一次成像, 而掃描電鏡的成像則不需要成象透鏡, 其圖象是按一定時(shí)間、空間順序逐點(diǎn)形成并在鏡體外顯像管上顯示

二次電子成象是使用掃描電鏡所獲得的各種圖象中應(yīng)用比較廣泛的, 分辨本領(lǐng)也很高的一種圖象。我們以二次電子成象為例來說明掃描電鏡成象的原理。

由電子發(fā)射的電子束高可達(dá)30keV, 經(jīng)會(huì)聚透鏡、物鏡縮小和聚焦, 在樣品表面形成一個(gè)具有一定能量、強(qiáng)度、斑點(diǎn)直徑的電子束。在掃描線圈的磁場(chǎng)作用下, 入射電子束在樣品表面上按照一定的空間和時(shí)間順序做光柵式逐點(diǎn)掃描。由于入射電子與樣品之間的相互作用,電鏡分析價(jià)格, 將從樣品中激發(fā)出二次電子。由于二次電子收集極的作用, 可將各個(gè)方向發(fā)射的二級(jí)電子匯集起來, 再將加速極加速射到閃爍體上, 轉(zhuǎn)變成光信號(hào), 經(jīng)過光導(dǎo)管到達(dá)光電倍增管, 使光信號(hào)再轉(zhuǎn)變成電信號(hào)。這個(gè)電信號(hào)又經(jīng)視頻放大器放大并將其輸送至顯像管的柵極, 調(diào)制顯像管的亮度。因而, 再熒光屏上呈現(xiàn)一幅亮暗程度不同的、反映樣品表面形貌的二次電子象。


臺(tái)式掃描電鏡觀察納米材料

臺(tái)式掃描電鏡的優(yōu)點(diǎn)是:

 ?、儆休^高的放大倍數(shù),20-200000倍之間連續(xù)可調(diào);

 ?、谟泻艽蟮木吧睿曇按?,成像富有立體感,可直接觀察各種試樣凹凸不平表面的細(xì)微結(jié)構(gòu);

 ?、墼嚇又苽浜?jiǎn)單,目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀裝置,這樣可以同時(shí)進(jìn)行顯微組織形貌的觀察和微區(qū)成分分析(即SEM-EDS),因此它是當(dāng)今十分重要的科學(xué)研究?jī)x器之一。

臺(tái)式掃描電鏡觀察納米材料

  所謂納米材料,是指材料的顆?;蛭⒕С叽缭?.1-100nm范圍內(nèi),在保持表面清潔的條件下,潮州電鏡分析,通過壓制形成的固體材料納米材料具有許多不同于晶態(tài)和非晶態(tài)的物理和化學(xué)性質(zhì)納米材料具有廣闊的發(fā)展前景,將成為未來材料研究的掃描電鏡的一個(gè)重要特點(diǎn)是分辨率高現(xiàn)在它被廣泛用于觀察納米材料。


掃描電子顯微鏡的類型

掃描電子顯微鏡類型多樣, 不同類型的掃描電子顯微鏡存在性能上的差異。根據(jù)電子種類可分為三種:場(chǎng)發(fā)射電子、鎢絲和六硼化鑭 。

其中, 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡根據(jù)光源性能可分為冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡和熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡。

冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡對(duì)真空條件要求高, 束流不穩(wěn)定, 發(fā)射體使用壽命短, 需要定時(shí)對(duì)針尖進(jìn)行清洗, 僅局限于單一的圖像觀察, 應(yīng)用范圍有限;而熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡不僅連續(xù)工作時(shí)間長(zhǎng),電鏡分析中心, 還能與多種附件搭配實(shí)現(xiàn)綜合分析。

在地質(zhì)領(lǐng)域中, 我們不僅需要對(duì)樣品進(jìn)行初步形貌觀察, 還需要結(jié)合分析儀對(duì)樣品的其它性質(zhì)進(jìn)行分析, 所以熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡的應(yīng)用更為廣泛。


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