蘇州和百裕(圖)-鋁氧化廠家-鋁氧化

氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。

第三段c（曲線cd段）：多孔層增厚。陽極氧化約20s后，電壓進入比較平穩(wěn)而緩慢的上升階段。表明無孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時，新的無孔層又在生長，鋁氧化，也就是說氧化膜中無孔層的生成速度與溶解速度基本上達到了平衡，故無孔層的厚度不再增加，電壓變化也很小。但是，此時在孔的底部氧化膜的生成與溶解并沒有停止，他們?nèi)栽诓粩噙M行著，結(jié)果使孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動。隨著氧化時間的延續(xù)，孔穴加深形成孔隙，具有孔隙的膜層逐漸加厚。當(dāng)膜生成速度和溶解速度達到動態(tài)平衡時，即使再延長氧化時間，鋁氧化廠家，氧化膜的厚度也不會再增加，此時應(yīng)停止陽極氧化過程。陽極氧化特性曲線與氧化膜生長過程。

陽極氧化工藝：

影響氧化膜質(zhì)量的因素有：

電解液溫度：電解液溫度對氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高，鋁氧化生產(chǎn)廠家，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當(dāng)溫度為22～30℃時，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當(dāng)差；當(dāng)溫度大于30℃時，膜就變得疏松且不均勻，有時甚至不連續(xù)，鋁氧化加工，且硬度低，因而失去使用價值；當(dāng)溫度在10～20℃之間時，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當(dāng)溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。因此，生產(chǎn)時必須嚴(yán)格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時，必須降低操作溫度，在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度，通常在零度左右進行硬質(zhì)氧化。

陽極氧化通過選用不同類型、不同濃度的電解液，以及控制氧化時的工藝條件，可以獲得具有不同性質(zhì)、厚度約為幾十至幾百微米的陽極氧化膜，其耐蝕性，耐磨性和裝飾性等都有明顯改善和提高。形成Al及鋁合金的陽極氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導(dǎo)電作用。鋁及其合金進行陽極氧化時，在陽極發(fā)生反應(yīng)。