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試驗室供氣現(xiàn)狀
目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統(tǒng)完成上述工作。同時,當(dāng)?shù)叵酪?guī)范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲槽放置在工作區(qū)外的指1定區(qū)域,然后將氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗室內(nèi)。
但是考慮和效率因素,不考慮經(jīng)濟(jì)性因素,集中供氣系統(tǒng)是比較優(yōu)1秀的方式。并成為當(dāng)今試驗室設(shè)備使用高純氣體的可靠連續(xù)的供應(yīng)源,氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗室內(nèi),并可通過安裝在工作臺上的使用點二級減壓器方便地調(diào)節(jié)壓力和流量。
國內(nèi)比較老的試驗室在使用氣體的時候大多是將氣瓶放在用氣點的旁邊,然后在氣瓶出口處安裝一個減壓器,然后直接通過紫銅管或四氟軟管連接到儀器上,如果一個試驗室里有多個使用設(shè)備時,就會有很多氣瓶,高純供氣系統(tǒng)多少錢,同時有很多雜亂的管路,同時這些氣體不乏有毒氣體、強腐蝕氣體,以及氣瓶出口高壓等因素,使得這種方式在現(xiàn)實使用過程中是充滿危險性的。
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特種氣體的應(yīng)用
電子工業(yè)是當(dāng)今推動科技發(fā)展的高新技術(shù)產(chǎn)業(yè),由于所用氣體的品種多、質(zhì)量要求高,為有別于其它領(lǐng)域應(yīng)用的氣體,人們把這類在電子工業(yè)中用的氣體統(tǒng)稱為電子特種氣體,它是當(dāng)今興起的高技術(shù)含量、高投入、高附加值的高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)。電子行業(yè)常用的特氣超過三十余種,按危險性質(zhì)可分為不燃?xì)怏w、可燃?xì)怏w、氧化性氣體、腐蝕性氣體、毒性氣體等。按照物理形態(tài)可分為壓縮氣體、液化氣體和低溫氣體。
特種氣體的應(yīng)用領(lǐng)域主要在集成電路制造、太陽能電池、化合物半導(dǎo)體、液晶顯示器、光纖生產(chǎn)四大領(lǐng)域,其中主要應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路的生產(chǎn)制造。在半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用的有110余種單元特種氣體,其中常用的有20~30種。
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大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹
大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大規(guī)模集成電路廠(氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線(氣體種類包括NH3),發(fā)光二極管的磊晶工序線(氣體種類包括NH3)、5代以上液晶顯示器工廠(氣體種類包括4、3、NF3)、光纖(氣體種類包括SiCl4)、硅材料外延生產(chǎn)線(氣體種類包括HCL)等行業(yè)。它們的投資規(guī)模巨大,采用1的工藝制程設(shè)備,用氣需求量大,對穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。
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