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試驗室供氣現(xiàn)狀
目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統(tǒng)完成上述工作。同時,當?shù)叵酪?guī)范建議甚至要求將主要的氣體源如氣瓶、杜瓦瓶和液體儲槽放置在工作區(qū)外的指1定區(qū)域,然后將氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗室內(nèi)。
但是考慮和效率因素,不考慮經(jīng)濟性因素,集中供氣系統(tǒng)是比較優(yōu)1秀的方式。并成為當今試驗室設(shè)備使用高純氣體的可靠連續(xù)的供應源,氣體通過管道系統(tǒng)輸送至試驗室內(nèi),并可通過安裝在工作臺上的使用點二級減壓器方便地調(diào)節(jié)壓力和流量。
國內(nèi)比較老的試驗室在使用氣體的時候大多是將氣瓶放在用氣點的旁邊,然后在氣瓶出口處安裝一個減壓器,然后直接通過紫銅管或四氟軟管連接到儀器上,如果一個試驗室里有多個使用設(shè)備時,就會有很多氣瓶,同時有很多雜亂的管路,同時這些氣體不乏有毒氣體、強腐蝕氣體,以及氣瓶出口高壓等因素,使得這種方式在現(xiàn)實使用過程中是充滿危險性的。
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高純供氣系統(tǒng)
持續(xù)和及時。集中供氣系統(tǒng)采用手動、半自動或全自動切換系統(tǒng),高純供氣系統(tǒng)公司,平時每個供氣源為一開一備狀態(tài),可根據(jù)儀器工作條件對局部或整體氣體壓力、流量進行調(diào)節(jié),能保證儀器用氣的流量和壓力的穩(wěn)定性、持續(xù)性,也能保證量值傳遞不發(fā)生變化。
擴展性靈活。集中供氣管道上可預留接氣點以及能夠擴展的點,并安裝控制開關(guān)或堵頭,方便擴展。所有用氣的儀器前端均裝控制閥。因此,可以在不影響其他儀器正常工作的情況下,擴展新的用氣端點。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)
隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大,要求半導體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應越來越高,對氣體中雜質(zhì)和露1點要求極為嚴格,需要達到ppb、ppt級,塵埃粒徑求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。
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