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針對印刷線路板、混合電路的涂層防護是Parylene普及的應(yīng)用之一,它符合美國軍標Mil-I-46058C中的XY型各項指標,滿足IPC-CC-830B防護標準。在鹽霧試驗及其它惡劣環(huán)境下仍能保持電路板的高可靠性,并且不會影響電路板上電阻、熱電偶和其它元器件的功能。
電子元件和電路組件的共形涂層必須滿足電絕緣和環(huán)境防護要求。不斷小型化的電子產(chǎn)品對絕緣涂層的性能提出了更高的要求,部分原因是涂層機械體積與電路功能之間的關(guān)系,絕緣性涂層更重要的特點是涂敷的完整性和均勻性,以及它在物理、電氣、機械、方面的性能。
化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng),在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學(xué)氣相沉積等。
真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較,具有下列優(yōu)點:(1)薄膜和基體選材廣泛,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液,也無環(huán)境污染。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,五金配件真空鍍膜哪家好,即物相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。物相沉積技術(shù)是指在真空條件下,五金配件真空鍍膜,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物相沉積方法制得,它利用某種物理過程,如物質(zhì)的熱蒸發(fā),或受到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象,實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。


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