供應(yīng)哈氏槽 實(shí)驗(yàn)室*哈氏槽 實(shí)驗(yàn)用赫爾槽 電鍍實(shí)驗(yàn)用赫爾槽

電鍍實(shí)驗(yàn)用哈氏槽 赫爾槽267ml 電鍍實(shí)驗(yàn)用赫爾槽  單槽 無粘接整體成型耐用

本款無粘接整體成型，不帶加熱不帶打氣

哈氏槽的槽體材料一般用耐酸、堿的透明塑料，以便于觀察試驗(yàn)情況。哈氏槽的陰，陽極之間不是平行的，而是保持一定的角度，這是霍爾槽的主要特點(diǎn)。

哈氏槽是一種試驗(yàn)效果好、操作簡單、所需溶液體積小的小型電鍍試驗(yàn)槽。它可以較好地確定獲得外觀合格鍍層的電流密度范圍及其它工藝條件（如溫度、PH值等），用于研究溶液主要組分和添加劑的影響，幫助分析溶液產(chǎn)生故障的原因。此外，利用哈氏槽還可以測定鍍液的分散能力、整平性及鍍層的內(nèi)應(yīng)力。因此，哈氏槽試驗(yàn)在電鍍工藝試驗(yàn)研究和現(xiàn)場生產(chǎn)質(zhì)量控制方面都得到了廣泛應(yīng)用。

哈氏槽,霍爾槽,赫爾槽,Hull cell

哈氏槽試驗(yàn)做為研究開發(fā)，電鍍工廠管理、電鍍實(shí)驗(yàn)極有價值。

一、其主要目的可分， (1) 測知以理論調(diào)配之鍍液的電鍍實(shí)用范圍。(2) 分析鍍液組成，添加劑、雜質(zhì)的變化或影響。 電鍍液的管理是為了得到良好的電鍍液及良好的鍍層所做的一切有關(guān)鍍液性能的試驗(yàn)，鍍液成份的分析及鍍液組成的控制。

二、主要的可分下列幾項(xiàng)：
(1) 哈氏槽試驗(yàn)(Hull cell test)。
(2) 哈林槽試驗(yàn)(Haring cell test)。
(3) 管子試驗(yàn)。
(4) 陰極彎區(qū)試驗(yàn)。
(5) 鍍液化學(xué)成份定性級定量分析。
(6) PH值測定。
(7) 比重測定。
(8) 表面張力測定。
(9) 鍍液導(dǎo)電度測定。
(10)電流效率測定。
三、 哈氏槽試驗(yàn)
哈氏槽試驗(yàn)做為研究開發(fā)，電鍍工廠管理、電鍍實(shí)驗(yàn)極有價值。其主要目的可分，
(1) 測知以理論調(diào)配之鍍液之電鍍實(shí)用范圍。
(2) 分析鍍液組成，添加劑、雜質(zhì)的變化或影響。
赫爾槽根據(jù)所裝的容積可分為，267ml、500ml、1000ml三種。最常用的是267ml,液面高度為45mm,赫爾槽使用底部鼓氣的方式來實(shí)現(xiàn)溶液攪拌的目的，加熱一般是通過安裝在底部的加熱棒來實(shí)現(xiàn)

　赫爾槽的陰陽極通常都是長方形的薄板，陽極厚度一般為3-5mm,長寬一般為60*70mm,陰極的厚度一般是0.2-0.3mm,一般為100*65mm