YZD08-2C等離子清洗裝置 等離子清洗機 等離子清洗儀 YZD08-2C真空等離子清洗儀 實驗室等離子清洗裝置

YZD08-2C 容量 2L  功率0-150W

YZD08-5C 容量 5L  功率0-300W

YZD08-10C 容量 10L  功率0-500W

YZD08-2C真空等離子清洗機 ：等離子通常稱作物質(zhì)的第四種狀態(tài)，種狀態(tài)是固體、液體、氣體，它們是比較常見的，就存在于我們周圍。等離子在地球上只存在于某種特定環(huán)境，如閃電、極光。就好象把固體轉(zhuǎn)變成氣體需要能量一樣，產(chǎn)生離子體也需要能量。一定量的離子體是由帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）混合組成。離子體能夠?qū)щ姟? 等離子技術的應用 通過對物體表面進行等離子轟擊，可以達到對物體表面的蝕刻，活化，清洗等目的?？梢燥@著加強這些表面的粘性及焊接強度，等離子表面處理系統(tǒng)現(xiàn)正應用于LCD，LED，IC，PCB，SMT，BGA，引線框架，平板顯示器的清洗和蝕刻。等離子清洗過的IC可顯著提高焊線強度，減少電路故障的可能性。殘余的感光阻劑、樹脂，溶液殘渣及其他有機污染物暴露于等離子體區(qū)，短時間內(nèi)就能。PCB制造商用等離子蝕刻系統(tǒng)進行去污和蝕刻來帶走鉆孔中的絕緣物。對許多產(chǎn)品，不論它們是應用于工業(yè)。電子、航空、健康等行業(yè)，可靠性都依靠于兩個表面之間的粘結強度。不管表面是金屬、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的復合物，等離子體都有潛能改進粘著力，提高最終產(chǎn)品質(zhì)量。等離子體改變?nèi)魏伪砻娴哪芰κ前踩?、環(huán)保的、經(jīng)濟的。它是許多行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)問題的可行的解決方案。 等離子處理的原理 給一組電極通上射頻電源，電極之間形成高頻交變電場，區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對物體表面進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，而達到表面處理的目的。 在整個等離子處理過程中，影響等離子處理效果的要素包括過程溫度、射頻功率、氣體分配、真空度、電極設置、靜電保護等等

 等離子清洗機型號：YZD08-2C型是單路氣體輸入，不銹鋼艙體：Φ100mm×270mm ? 容量：2升 *供電電源： AC220V *工作電流： 整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵) *射頻電源功率： 200W *射頻頻率： 40KHZ或13.56MHz選裝 （偏移量小于0.2KHz） *頻率偏移量： 小于0.2KHz *特性阻抗： 50歐姆，自動匹配 *真空度： 10Pa—1000Pa *氣體流量： 60—600ml/min(可調(diào)) *過程控制： MCU自動與手動方式 清洗時間： 1-100分鐘可調(diào) 功率大小 10%-可調(diào) *外形尺寸： YZD08-2C型_400x450x250 *重量： 36.5Kg *真空泵： *真空室溫度： 小于65°C *冷卻方式： 強制風冷

YZD08-2C 容量 2L  功率0-150W

YZD08-5C 容量 5L  功率0-300W

YZD08-10C 容量 10L  功率0-500W

等離子清洗機輝光放電原理

等離子清洗/刻蝕機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。

輝光放電時，在放電管兩極電場的作用下，電子和正離子分別向陽極、陰極運動，并堆積在兩極附近形成空間電荷區(qū) 。因正離子的漂移速度遠小于電子，故正離子空間電荷區(qū)的電荷密度比電子空間電荷區(qū)大得多，使得整個極間電壓幾乎全部集中在陰極附近的狹窄區(qū)域內(nèi)。這是輝光放電的顯著特征，而且在正常輝光放電時，兩極間電壓不隨電流變化。

所以，我們在實驗或生產(chǎn)過程中，千萬不要將材料接觸于電極板任何部位，否則將會導致整機短路，嚴重的情況則會燒壞電路板等。正確理解輝光的原理，對我們等離子清洗工藝處理特殊材質(zhì)會有很大的幫助！