CR-2000硬鉻電鍍工藝
[CR-2000硬鉻電鍍工]
南京市硬鉻電鍍工藝廠家
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- 級別： PH標(biāo)準試劑
- 含量： 99%
CR-2000硬鉻電鍍工藝
CR-2000硬鉻電鍍工藝是高新技術(shù)和創(chuàng)造思維的結(jié)晶，完全不同與常規(guī)鍍鉻和普通混合型催化劑鍍鉻工藝，其工藝操作簡單，補給水單一添加，鍍液維護方便。
一、工藝特點：
1.陰極電流效率高，可達23-25%
2.沉積速度快，是一般普通電鍍鉻的2-3倍
3.無陰極低電流區(qū)腐蝕
4.鍍層平滑，結(jié)晶細致光亮
5.高鍍層硬度，可達HV900-1150
6.微裂紋可達400-600條/厘米
7.鍍層厚度均勻，無高電流區(qū)沉積過厚
8.可使用高電流密度，可達90安培/平方分米
9.鍍液維護簡單，操作容易
10.無陽極腐蝕，不需采用特殊陽極
11.無固體添加之銘塵和濺水現(xiàn)象
二、鍍液配方和操作工藝：
| 成分和物理參數(shù) | 一般零件 | 活塞環(huán) | ||
| 范圍 | 標(biāo)準 | 范圍 | 標(biāo)準 | |
| 鉻酐(克/升) | 210-250 | 230 | 165-190 | 180 |
| (克/升) | 2.4-3.5 | 2.7 | 1.8-2.1 | 2.0 |
| 溫度(℃) | 55-60 | 57 | 55-60 | 57 |
| 陰極電流密度(安培/平方分米) | 30-75 | 60 | 30-75 | 60 |
| 陽級電流密度(安培/平方分米) | 15-35 | 30 | 15-35 | 30 |
三、鍍液配制：
| 鍍件 | 鉻酐濃度 | 100升鍍液 |
| 一般零件 | 210-250克/升 | 2升CR-2000 |
| 活塞環(huán) | 165-190克/升 | 1.45升CR-2000 |
1.清洗槽子
2.注入一半體積去離子水
3.加入所需量的鉻酐
4.添加所需量的CR-2000
5.加入去離子水、調(diào)節(jié)至規(guī)定液面
6.加熱至55-60℃
7.分析濃度，調(diào)整至規(guī)定工藝范圍
8.電解4小時
9.加入適宜的鉻霧抑制劑
10.試鍍
四、沉積速度：
| 陰極電流密度(安培/平方分米) | 沉積速度(微米/小時) |
| 30 | 20-30 |
| 45 | 40-50 |
| 60 | 50-70 |
| 75 | 70-90 |
鍍槽：鐵槽內(nèi)襯軟PVC或其它認可材料。
陽極：含錫7%鉛錫陽極或其它認可材料。
整流器：輸出電壓可達9-16伏較適宜，輸出電流波紋率00在5%以下。
溫度控制：采用熱交換器或冷卻管，建議采用鈦管或金屬披覆聚四氟乙烯。
六、轉(zhuǎn)缸及前處理：
傳統(tǒng)的硬鉻液轉(zhuǎn)為CR-2000工藝簡單，將鍍液送交本廠化驗。
確認無機雜質(zhì)小于7.5克/升，同時不含氟化物即可，CR-2000工藝的前處理同一般傳統(tǒng)鍍鉻相同無需特殊處理。
七、槽液維護：
CR-2000用于槽液之補充添加，按每千安培小時補充4-6毫升。 標(biāo)簽： CR-2 CR-2000硬鉻電鍍工 南京市硬鉻電鍍工藝 南京市硬鉻電鍍工藝廠家
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