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江蘇無(wú)錫中晶材料科技有限公司氧化鋁拋光液SP-90-2無(wú)錫氧化鋁拋光液SP-90-2江蘇無(wú)錫中晶材料科技有限公司氧化鋁拋光液SP-90-2
平板狀(菱形)氧化鋁研磨微粉產(chǎn)品介紹:
無(wú)錫中晶材料科技有限公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售一體化的氧化鋁研磨拋光粉企業(yè),按水力分級(jí)工藝流程嚴(yán)格的分級(jí)而制成。硬度僅次于金剛石,是非常優(yōu)異的精密研磨拋光、研磨微粉。
1、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的性能:平板型氧化鋁研磨拋光微粉
一、企業(yè)概況:
無(wú)錫中晶材料科技有限公司是專業(yè)從事“平板狀氧化鋁研磨拋光微粉”(TWA系列規(guī)格產(chǎn)品)的生產(chǎn)、研發(fā)、銷售于一體的科技型企業(yè),已通過(guò)ISO:9001-2000國(guó)際質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),具有水平的生產(chǎn)線和的員工隊(duì)伍,擁有Coulter MultisizerII型粒度分析儀和其它精密的質(zhì)控儀器。該產(chǎn)品填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)在磨料上的空白,改變了我國(guó)長(zhǎng)期依賴進(jìn)口的局面,現(xiàn)已穩(wěn)定地供應(yīng)給美國(guó)、日本、韓國(guó)、馬來(lái)西亞、臺(tái)灣地區(qū)以及國(guó)內(nèi)眾多企業(yè)。公司擁有自主的TWA(燒結(jié)平板狀氧化鋁研磨粉)產(chǎn)品的技術(shù),產(chǎn)品質(zhì)量等同日本FUJIMI的PWA、美國(guó)Microgrit的WCA,居國(guó)內(nèi)水平。TWA產(chǎn)品采用獨(dú)特的生產(chǎn)工藝,使其顆粒尺寸更均勻。TWA的晶體形狀為六角平板狀,區(qū)別于傳統(tǒng)磨料的等積型或球形,這種形狀使磨料顆粒在研磨運(yùn)動(dòng)中平行于被加工工件表面,產(chǎn)生滑動(dòng)的研磨效果,而非傳統(tǒng)磨料的滾動(dòng)研磨,因而不容易對(duì)工件表面產(chǎn)生隨機(jī)劃傷。同時(shí),由于研磨壓力是均勻分布在平板狀磨粒表面,顆粒破碎減少,耐磨性大幅提高,因而能提供的磨削效率和表面光潔度。實(shí)驗(yàn)表明,WTA研磨粉能夠減少研磨和拋光次數(shù)至少10-20%,能夠?qū)崿F(xiàn)快速研磨和拋光,建議客戶在使用時(shí)以傳統(tǒng)磨料的一半用量為起點(diǎn)。TWA產(chǎn)品特別適合研磨、拋光半導(dǎo)體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、水晶、石英玻璃、硬質(zhì)玻璃、光學(xué)玻璃、液晶顯示器(LCD)玻璃基板、石英晶體、化合物半導(dǎo)體材料(、磷化銦)、精密陶瓷材料、軸承球、襯、藍(lán)寶石,磁性材料等。同時(shí)它還可做燒結(jié)陶瓷原料、高溫涂料(油漆,密封膠,化妝品)的填充材料。我公司嚴(yán)格按照ISO9001標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行產(chǎn)品質(zhì)量管理,實(shí)施全程質(zhì)量監(jiān)控,在關(guān)鍵點(diǎn)引入SPC質(zhì)控體系。同時(shí)我公司有的檢測(cè)設(shè)備CoulterMultisizerⅡ,產(chǎn)品按日本FUJIMI標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行,TWA系列產(chǎn)品達(dá)到日本Fujimi的PWA標(biāo)準(zhǔn)。產(chǎn)品穩(wěn)定供應(yīng)美國(guó)、歐洲、日本、韓國(guó)及國(guó)內(nèi)客戶,國(guó)內(nèi)用戶已逐步用我公司產(chǎn)品替代進(jìn)口。
二, 產(chǎn)品介紹:該研磨拋光微粉是以徳國(guó)進(jìn)口工業(yè)氧化鋁為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經(jīng)特殊處理和嚴(yán)顆粒呈獨(dú)特的平板狀結(jié)構(gòu),硬度高達(dá)莫氏九級(jí),磨削力強(qiáng),不易產(chǎn)生劃痕,可得到率、高精度的被加工表面,有特殊設(shè)計(jì)的粒度分布,質(zhì)量和日本FUJIMI公司相當(dāng)。
2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點(diǎn)
1)平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的區(qū)別是:片狀,硬度高,粒度均勻。
2)特點(diǎn)為:
A、形狀為平板狀,即片狀,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可減少磨片機(jī)的數(shù)量、人工和磨削時(shí)間,如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍;
B、由于形狀為平板狀,故對(duì)于被磨對(duì)象(如半導(dǎo)體硅片等)來(lái)說(shuō)不易劃傷,合格品率可提高10%至15%,如半導(dǎo)體硅片,其合格品率一般能達(dá)到99%以上;
C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高,故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少,如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品,其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%;
D、與國(guó)外同類產(chǎn)品相比,質(zhì)量達(dá)到或超過(guò)國(guó)外同類產(chǎn)品,品質(zhì)已達(dá)到,但產(chǎn)品價(jià)格只有國(guó)外同類產(chǎn)品的50%;
E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能,故加工的產(chǎn)品合格品率高,質(zhì)量穩(wěn)定,生產(chǎn)成本只有原來(lái)的50%-60%。(具體數(shù)據(jù)可見用戶報(bào)告)
3、片狀氧化鋁是以工業(yè)氧化鋁為原料,添加復(fù)合礦化劑,經(jīng)過(guò)高溫煅燒而成。晶體形貌為具有一定厚度的片狀備用于以下方面的研磨拋光磨料,平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:
1)電子行業(yè): 單晶硅片、石英晶體、化合物半導(dǎo)體的研拋。
2)玻璃行業(yè): 硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。
3)涂附行業(yè): 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
4)金屬和陶瓷加工業(yè)。
三, 平板狀(片狀)氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指
平均粒度(D50值)
(由Coulter Counter測(cè)試)
| 產(chǎn)品粒度分布 微米(?m)
| ||
|
規(guī)格型號(hào) | 平均粒度(D50值) | 粒度目數(shù)(#) |
| TWA1 | 1.0 | 8000# |
| TWA2 | 2.2 | 6000# |
| TWA3 | 3.1 | 4000# |
| TWA5 | 4.7 | 3000# |
| TWA9 | 6.4 | 2000# |
| TWA GF1 | 7.0 | 2200# |
| TWA12 | 8.4 | 1500# |
| TWA15 | 10.5 | 800# |
| TWA20 | 14.5 | 700# |
| TWA25 | 17.4 | 700# |
| TWA30 | 21.5 | 600# |
| TWA35 | 25.5 | 500# |
| TWA40 | 31.0 | 400# |
| TWA45 | 36.0 | 360# |
| TWA50 | 42.5 | 320# |
| TWA55 | 50.0 | 280# |
| TWA60 | 63.0 | 240# |
注明(產(chǎn)品粒度以客戶使用要求標(biāo)準(zhǔn)為準(zhǔn))
粒度分布表以TWA12為例)
| 標(biāo)準(zhǔn)粒徑 | 實(shí)測(cè)數(shù)值(um) | 規(guī)格(um) |
|
| 粒徑(dv-0值) | 16.9 | <23 |
|
| 累積高度3%點(diǎn)的粒徑(dv-3值) | 13.63 | <19 |
|
| 累積高度3%點(diǎn)的粒徑(dv-3值) | 8.5 | 7.8-9 |
|
| 累積高度94%點(diǎn)的粒徑(dv-94值) | 4.44 | ≥4 |
|
化學(xué)成分
| 化學(xué)成份 | 分析值(%) | 規(guī)格值(%) |
| AL2O3 | 99.38 | 99.3 |
| SiNa2O2 | 0.027 | 0.05 |
| Na2O | 0.35 | 0.55 |
| Fe2O3 | 0.03 | 0.10 |
物理指標(biāo):
| 化學(xué)名稱 | 外觀 | 比重 | 莫氏硬度 |
| A-AL2O3 | 白色 | 3.95-3.98g/cm3 | 9.0 |
包裝外貌:
| 包裝材料 | 內(nèi)襯雙層塑料袋,紙箱外包裝 |
| 包裝重量 | 20KG/箱
|

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