小型等離子清洗儀出售表面處理機(jī) 定時(shí)清洗 全自動(dòng)等離子清潔器

   PT-5S真空等離子清洗機(jī)表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗，在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵抽走，其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機(jī)既能加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，也能對(duì)樣品進(jìn)行消毒和。等離子清洗機(jī)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

  國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)是在國(guó)外等離子清洗機(jī)價(jià)格貴，難以推廣等缺點(diǎn)的基礎(chǔ)上，吸取了現(xiàn)有國(guó)內(nèi)外等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)，結(jié)合國(guó)內(nèi)用戶的使用需求，采用科技手段開發(fā)出的新型系列等離子清洗機(jī)。該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點(diǎn)外，更具有性能穩(wěn)定、、清洗效率高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的優(yōu)點(diǎn)。產(chǎn)品能適應(yīng)不同用戶對(duì)設(shè)備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇，不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。。

功能：

對(duì)金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機(jī)污染物 （如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進(jìn)行超清洗。

改變某些材料表面的性能。

使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性。

金屬材料表面的氧化層。

對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒、。

優(yōu)點(diǎn)

具有性能穩(wěn)定、、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)。

對(duì)各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性。

完全地樣品表面的有機(jī)污染物。

定時(shí)處理、快速處理、清洗效率高。                             

綠色環(huán)保、不使用化學(xué)、對(duì)樣品和環(huán)境無二次污染。

在常溫條件下進(jìn)行超清洗，對(duì)樣品非破壞性處理。

應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。

清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。

清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。

清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

高分子材料表面的修飾。

封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強(qiáng)其粘附性，適用于直接封裝及粘和。

改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。

醫(yī)用領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。對(duì)醫(yī)療器械的消毒和。

小型等離子清洗機(jī)

 型PT-5S

 外形型號(hào)：550mm×450mm×450mm   

 銹鋼艙體：Φ150mm×270mm （艙體內(nèi)置）

容量：5升  

頻率：40KHz或13.56MHz選裝      

   功率：0-300W   

   電源：AC220V

       處理過程：分手動(dòng)與自動(dòng)控制

等離子體和等離子體清洗

什么是等離子體？物質(zhì)有四種的表現(xiàn)形式：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)、等離子態(tài)

  我們可以簡(jiǎn)單地從水分子的情況回顧一下物質(zhì)的四種狀態(tài)。在零度（-273℃）水和所有物質(zhì)都是固態(tài)，原子停止振動(dòng)。隨著提供原子能亮（加熱），原子開始再次振動(dòng)，并且分子恢復(fù)動(dòng)力。溫度一直上升到0℃，H2O分子保持在固態(tài)（冰）。更多能量的施加引起固態(tài)中H2O分子振動(dòng)的區(qū)域發(fā)生轉(zhuǎn)變，H2O從固態(tài)變成液態(tài)（水）。給液體增加能量不斷地分子直到水再一次改變狀態(tài)，這一次從液態(tài)變?yōu)闅鈶B(tài)（蒸汽）。

  能量的進(jìn)一步施加，致使分子太活躍不能保持它的分子完整性?；谶@一點(diǎn)H2O將分裂為它的組成部分（氫和氧原子），同時(shí)釋放出高能自由電子。由于電子和離子重新組合釋放出光子，一個(gè)可見的放電發(fā)光區(qū)被激發(fā)，物質(zhì)的這種狀態(tài)的亞原子狀態(tài)被稱為“等離子體”。

  隨著頻率或微博源的停止施加，各種亞原子態(tài)的離子重新合成更穩(wěn)定的分子形式。

  發(fā)生在我們身邊的等離子體有恒星、氖發(fā)光、極光等等。

為什么用等離子體清洗？

直接把高能等離子體流施加到被清洗表面以達(dá)到等離子體清洗的目的。例如：用氧氣等離子體可以使有機(jī)物沉積被氧化掉；用惰性的氬氣等離子體可以使顆粒污染被機(jī)械地沖洗掉，等等。寬范圍的選擇氣體種類，可以滿足很多等離子體清洗的要求。

  頻射場(chǎng)區(qū)中離子的物理加速促進(jìn)了清洗工藝。事實(shí)上，等離子體的強(qiáng)度直接決定于：

a） 反應(yīng)器的幾何尺寸

b） 產(chǎn)生等離子體的頻射電源

c） 氣體的流速

d） 真空泵的抽速

e） 真空度

f） 使用的反應(yīng)物和稀釋氣體

等離子體清洗設(shè)備的類型

形成等離子體的基本因素是低于大氣壓狀態(tài)的氣體放電。反應(yīng)室的尺寸有各種各樣的形式，電極的結(jié)構(gòu)取決于樣品托盤和常規(guī)的反應(yīng)室結(jié)構(gòu)。

三種流行的設(shè)計(jì)是：

（1） 感應(yīng)耦合“桶式”反應(yīng)室

（2） 電容耦合“平行平板”反應(yīng)室

（3） “順流”反應(yīng)室

這三種類型的反應(yīng)室都可以用頻射和微博電源產(chǎn)生等離子體。

感應(yīng)耦合“桶式”反應(yīng)室

一種早期設(shè)計(jì)成“桶式”反應(yīng)室的等離子體清洗機(jī)，頻射能量在反應(yīng)室外壁和內(nèi)部電中性有孔的法拉第籠之間流動(dòng)。等離子體在桶的內(nèi)壁和法拉第籠外壁之間產(chǎn)生。

這個(gè)有孔的籠是電中性的（不接地），它僅僅形成一個(gè)機(jī)械的屏障阻擋等離子體進(jìn)入工作區(qū)，容許一些亞原子種類的混合物進(jìn)入負(fù)載區(qū)。這樣從電源方向看起來，有孔的法拉第鞘和工作區(qū)像是一個(gè)感應(yīng)電容。

  因此，電源的匹配網(wǎng)絡(luò)必須予先調(diào)節(jié)好，才能符合每一個(gè)不同的工作負(fù)載。獲得均勻清洗效果。還有，由于氣體的原子必須通過從內(nèi)鞘到工作負(fù)載這一段廠距離，這種方法的清洗效率非常低。并且工作區(qū)中樣品的外邊得到更多的處理，而樣品中間得到的少。

  由于以上的原因，工業(yè)已經(jīng)很少使用這種等離子體清洗技術(shù)。

電容耦合平行平板反應(yīng)室

   在這種方法中，樣品杯直接地放置在一個(gè)電極上。平行平板的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了一個(gè)均勻的等離子體覆蓋樣品負(fù)載，樣品收到磁、RF、電子、x射線、光子的轟擊。工作區(qū)會(huì)產(chǎn)生熱能。

平行平板榮幸順流反應(yīng)室

  這種設(shè)計(jì)師學(xué)習(xí)了上面所描述的技術(shù)產(chǎn)生的結(jié)果。工程師設(shè)想一個(gè)理想的、適應(yīng)廣泛的等離子體清洗機(jī)都應(yīng)該包括什么內(nèi)容。他們理想的狀態(tài)如下：

1. 應(yīng)該有一個(gè)均勻的等離子體區(qū)，使樣品的邊緣和中心具有相同的清洗均勻性。

2. 不管負(fù)載的輕重，系統(tǒng)電源的設(shè)定應(yīng)該是不受約束的。設(shè)定值不管放在一個(gè)樣品或放慢樣品都應(yīng)該是一個(gè)值。

3. 設(shè)備應(yīng)該具有盡可能的生產(chǎn)能力。

4. 在等離子體工藝期間，即使是大多數(shù)敏感器件也不發(fā)生電子損傷。

以上看起來是不可能達(dá)到的目標(biāo)，因?yàn)檫@些理想的狀態(tài)好像有一些沖突。經(jīng)過一些工程師的努力，“順流等離子體”的概念被創(chuàng)造出來，清洗樣品放置在容性負(fù)載的外面，這樣解決了上面的第二個(gè)問題。

 平行平板的結(jié)構(gòu)（替代桶式）提供了一個(gè)在所有樣品便面均勻的等離子體，并且難呢過提供的樣品裝載能力，因此滿足（1）和（3）的要求

下電極接地（電中性）確保有所的高能電子不能接觸到樣品的表面，第（4）點(diǎn)也被照顧到了。

這種等離子體清洗機(jī)是現(xiàn)在流行的，可以滿足比較苛刻的清洗工藝要求。