學校高校等離子清洗機表面處理機 定時清洗 全自動等離子清潔器

   PT-5S真空等離子清洗機表面處理設備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術，在一定真空負壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵抽走，其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進行消毒和。等離子清洗機現(xiàn)已廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫(yī)學、微觀流體學等領域。

  國產(chǎn)等離子清洗機是在國外等離子清洗機價格貴，難以推廣等缺點的基礎上，吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗機的優(yōu)點，結(jié)合國內(nèi)用戶的使用需求，采用科技手段開發(fā)出的新型系列等離子清洗機。該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點外，更具有性能穩(wěn)定、、清洗效率高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的優(yōu)點。產(chǎn)品能適應不同用戶對設備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇，不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。。

功能：

對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 （如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進行超清洗。

改變某些材料表面的性能。

使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。

金屬材料表面的氧化層。

對被清洗物進行消毒、。

優(yōu)點

具有性能穩(wěn)定、、操作簡便、使用成本極低、易于維護的特點。

對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和改性。

完全地樣品表面的有機污染物。

定時處理、快速處理、清洗效率高。                             

綠色環(huán)保、不使用化學、對樣品和環(huán)境無二次污染。

在常溫條件下進行超清洗，對樣品非破壞性處理。

應用領域

光學器件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。

清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。

清洗半導體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。

清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

高分子材料表面的修飾。

封裝領域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝及粘和。

改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

涂覆鍍膜領域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強表面粘附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

牙科領域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理，增強其浸潤性和相容性。

醫(yī)用領域中修復學上移植物和生物材料表面的預處理，增強其浸潤性、粘附性和相容性。對醫(yī)療器械的消毒和。

小型等離子清洗機

 型PT-5S

 外形型號：550mm×450mm×450mm   

 銹鋼艙體：Φ150mm×270mm （艙體內(nèi)置）

容量：5升  

頻率：40KHz或13.56MHz選裝      

   功率：0-300W   

   電源：AC220V

       處理過程：分手動與自動控制

等離子體和等離子體清洗

什么是等離子體？物質(zhì)有四種的表現(xiàn)形式：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)、等離子態(tài)

  我們可以簡單地從水分子的情況回顧一下物質(zhì)的四種狀態(tài)。在零度（-273℃）水和所有物質(zhì)都是固態(tài)，原子停止振動。隨著提供原子能亮（加熱），原子開始再次振動，并且分子恢復動力。溫度一直上升到0℃，H2O分子保持在固態(tài)（冰）。更多能量的施加引起固態(tài)中H2O分子振動的區(qū)域發(fā)生轉(zhuǎn)變，H2O從固態(tài)變成液態(tài)（水）。給液體增加能量不斷地分子直到水再一次改變狀態(tài)，這一次從液態(tài)變?yōu)闅鈶B(tài)（蒸汽）。

  能量的進一步施加，致使分子太活躍不能保持它的分子完整性。基于這一點H2O將分裂為它的組成部分（氫和氧原子），同時釋放出高能自由電子。由于電子和離子重新組合釋放出光子，一個可見的放電發(fā)光區(qū)被激發(fā)，物質(zhì)的這種狀態(tài)的亞原子狀態(tài)被稱為“等離子體”。

  隨著頻率或微博源的停止施加，各種亞原子態(tài)的離子重新合成更穩(wěn)定的分子形式。

  發(fā)生在我們身邊的等離子體有恒星、氖發(fā)光、極光等等。

為什么用等離子體清洗？

直接把高能等離子體流施加到被清洗表面以達到等離子體清洗的目的。例如：用氧氣等離子體可以使有機物沉積被氧化掉；用惰性的氬氣等離子體可以使顆粒污染被機械地沖洗掉，等等。寬范圍的選擇氣體種類，可以滿足很多等離子體清洗的要求。

  頻射場區(qū)中離子的物理加速促進了清洗工藝。事實上，等離子體的強度直接決定于：

a） 反應器的幾何尺寸

b） 產(chǎn)生等離子體的頻射電源

c） 氣體的流速

d） 真空泵的抽速

e） 真空度

f） 使用的反應物和稀釋氣體

等離子體清洗設備的類型

形成等離子體的基本因素是低于大氣壓狀態(tài)的氣體放電。反應室的尺寸有各種各樣的形式，電極的結(jié)構(gòu)取決于樣品托盤和常規(guī)的反應室結(jié)構(gòu)。

三種流行的設計是：

（1） 感應耦合“桶式”反應室

（2） 電容耦合“平行平板”反應室

（3） “順流”反應室

這三種類型的反應室都可以用頻射和微博電源產(chǎn)生等離子體。

感應耦合“桶式”反應室

一種早期設計成“桶式”反應室的等離子體清洗機，頻射能量在反應室外壁和內(nèi)部電中性有孔的法拉第籠之間流動。等離子體在桶的內(nèi)壁和法拉第籠外壁之間產(chǎn)生。

這個有孔的籠是電中性的（不接地），它僅僅形成一個機械的屏障阻擋等離子體進入工作區(qū)，容許一些亞原子種類的混合物進入負載區(qū)。這樣從電源方向看起來，有孔的法拉第鞘和工作區(qū)像是一個感應電容。

  因此，電源的匹配網(wǎng)絡必須予先調(diào)節(jié)好，才能符合每一個不同的工作負載。獲得均勻清洗效果。還有，由于氣體的原子必須通過從內(nèi)鞘到工作負載這一段廠距離，這種方法的清洗效率非常低。并且工作區(qū)中樣品的外邊得到更多的處理，而樣品中間得到的少。