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高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-5N):鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。
多元合金靶靶材(3N-4N):鎳釩合金靶Ni-V,鎳鉻合金靶Ni-Cr,鈦鋁合金靶Ti-Al,合金靶Si-Al,銅銦合金靶Cu-In,銅鎵合金靶Cu-Ga,銅銦鎵合金靶Cu-In–Ga,銅銦鎵硒靶Cu-In–Ga-Se,鋅鋁合金靶Zn-Al,鎢鈦W-Ti,鐵鈷Fe-Co等高純合金濺射靶材。
備注:眾誠新材生產(chǎn)的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.99%),可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
高純金屬單質(zhì)熔煉鍍膜材料(純度3N-5N,顆粒尺寸3*3mm、6*6mm、2*5mm等,絲材φ1.0mm、φ0.5mm等):金Au、銀Ag、鉑Pt、鈀Pd、鋁Al、鉻Cr、銅Cu、鎳Ni、鋯Zr、鉻Cr、鈦Ti、鈷Co、錫Sn、釩V、銻Sb、銦In、硼B、鎢W、錳Mn、鉍Bi、硅Si、鉭Ta、鋅Zn、鎂Mg、鈮Nb、鉬Mo等高純單質(zhì)金屬顆粒。
陶瓷化合物蒸發(fā)顆粒(純度3N-4N,尺寸1-3mm):一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化鈣、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩、氟化鎂、氟化鈣、、氟化鐿、氟化釔、、硫化物、硫化鋅、硫化鈣、硫化銻等陶瓷蒸發(fā)顆粒。
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聯(lián)系人:蔣先生
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