[鈦多弧靶 表面工程用鈦靶材 純鈦靶]
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| 品 名 | 純度 | 密度 | 鍍膜優(yōu)勢色 | 形狀 | 常規(guī)尺寸 | 應(yīng)用行業(yè) |
| 鈦鋁(TiAl)合金靶 | 2N8-4N | 3.6-4.2 | 玫瑰金/咖啡色 | 圓柱形 | 直 徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm | 裝飾/工具 |
| 純鈦(Ti)靶) | 2N8-4N | 4.51 | 金黃色/qiang黑色 藍色/玫瑰紅 | 圓柱形 | ||
靶材的主要性能要求:
純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中,對靶材的純度要求也不盡相同。隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的yang氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
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