研創(chuàng)新材高純鉑靶材 鉑顆粒 鉑絲 鉑錠

供應(yīng)高純鉑靶材 高純鉑顆粒 高純鉑絲 ——臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司

物理性質(zhì)：熔點(diǎn) 1773℃；密度 21.35g/立方厘米；摩氏硬度：4 - 4.5度，化學(xué)性穩(wěn)定，除以外不受酸堿腐蝕；

用途：鉑除了用作首飾外，還用作催化劑、實(shí)驗(yàn)器材（如高溫坩堝等化學(xué)器皿）、電子開(kāi)關(guān)、減低汽車(chē)排氣污染的觸媒轉(zhuǎn)換器等。鉑的化合物如順鉑（Cisplatin）則用于的化療之用

產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：質(zhì)量可靠，惠；真空熔煉，設(shè)備提純，純度高，雜質(zhì)少；軋制致密，氧化少，成型可塑；相對(duì)致密度高，晶粒均勻等軸，一致性高

包裝方式：真空包裝/真空中性包裝/特殊包裝外加固包裝

運(yùn)輸方式：國(guó)內(nèi)快遞承運(yùn)（順豐，申通，EMS，德邦）

研創(chuàng)新材主營(yíng)產(chǎn)品：高純金屬單質(zhì) 高純合金材料 高純金屬靶材 高純合金靶材 高純陶瓷靶材 高純稀土靶材 高純鍍膜材料 高純納米粉末蒸發(fā)源（舟）類(lèi)

研創(chuàng)新材專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)濺射靶材，陶瓷靶材，金屬靶材。產(chǎn)品通過(guò)各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應(yīng)用真空鍍膜的各種領(lǐng)域：科學(xué)研究，航天航空，汽車(chē)，微電子，集成電路產(chǎn)業(yè)，光源，光學(xué)，裝飾，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等等。

 1. 金屬靶材：

鎳靶，鈦靶，鋅靶，鉻靶，鎂靶，鈮靶，錫靶，鋁靶，銦靶，鐵靶，鋯靶，硅靶，銅靶，鉭靶，鍺靶，銀靶，鈷靶，金靶，釓靶，鑭靶，釔靶，鈰靶，鉿靶，鉬靶，鐵鎳靶，鎢靶，不銹鋼靶，鋯鋁靶，鎳鐵靶，鈦鋁靶，鐵鈷靶，鎳鉻靶，銅銦鎵靶，鋁硅靶，鋅鋁靶等濺射靶材。

2. 陶瓷靶材

ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶、氧化釔靶，氧化鐵靶，氧化鐵靶、氧化鎳靶，氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、靶，硫化鉬靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二硫化鉬靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶等陶瓷濺射靶材.

3.合金靶材

合金靶材：鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁  V-Al 、鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等。