高純鉬靶材 鉬顆粒 鉬塊 鉬粉

臨沂研創(chuàng)新材料科技有限公司為您供應高純鉬靶材及鉬的相關鍍膜產品，主要包括：
1、 高純鉬靶:本公司供應適合于輝光放電濺射、射頻輝光濺射、磁控濺射、離子束濺射、離子鍍用的高純鉬靶材。
2、 高純鉬靶材純度為：99.9%，99.95%，99.98%
3、 高純鉬靶材的規(guī)格：（1）平面靶材如?100*5mm平面高純圓鉬靶，150*100*3平面高純板鉬靶材，（2）磁控濺射用高純鉬靶：?100*120柱靶等。
4、 高純鉬靶的原材料生產工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等。
5、 高純鉬靶材加工工藝：磨，車，銑，等。
6、 高純鉬蒸發(fā)舟常用型號：310#，308#，312#，315#。
7、 高純鉬片，高純鉬背板梆定。

研創(chuàng)新材專業(yè)生產濺射靶材，陶瓷靶材，金屬靶材。產品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應用真空鍍膜的各種領域：科學研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產業(yè)，光源，光學，裝飾，平面顯示器產業(yè)，信息存儲產業(yè)，數據存儲等等。

 1. 金屬靶材：

鎳靶，鈦靶，鋅靶，鉻靶，鎂靶，鈮靶，錫靶，鋁靶，銦靶，鐵靶，鋯靶，硅靶，銅靶，鉭靶，鍺靶，銀靶，鈷靶，金靶，釓靶，鑭靶，釔靶，鈰靶，鉿靶，鉬靶，鐵鎳靶，鎢靶，不銹鋼靶，鋯鋁靶，鎳鐵靶，鈦鋁靶，鐵鈷靶，鎳鉻靶，銅銦鎵靶，鋁硅靶，鋅鋁靶等濺射靶材。

2. 陶瓷靶材

ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶、氧化釔靶，氧化鐵靶，氧化鐵靶、氧化鎳靶，氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、靶，硫化鉬靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二硫化鉬靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶等陶瓷濺射靶材.

3.合金靶材

合金靶材：鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁  V-Al 、鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等。