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[光催化氧化除臭設(shè)備 工業(yè)廢氣UV光解設(shè)備 光氧催化微波除臭設(shè)備 VOC廢氣處理設(shè)備 uv紫外光觸媒設(shè)備]
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一、 UV光解除臭設(shè)備介紹
UV光解除臭設(shè)備是我公司從國外引進技術(shù),與國內(nèi)多所院校積極合作,共同研究開發(fā)生產(chǎn)的一種能快速去除揮發(fā)性有機物(VOC)、無機物、硫.化氫、氨.氣、硫.醇、等污染物各種臭味的高科技環(huán)保設(shè)備。脫臭效率可達99.5%以上,脫臭效果大大超過國家頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93),它具有適應(yīng)性強、運行成本低、無需預(yù)處理和設(shè)備占地面積小等特點。
二、 適用范圍
UV光解除臭設(shè)備廣泛應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化,其中.特別適合用于噴漆尾氣的除臭。
三、 工作原理
惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本臭氣處理設(shè)備凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解化成低分子化合物、水和二.氧化碳,再通過排風(fēng)管道排出室外。
概述及工作原理
低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù),低溫等離子體處理廢氣的原理為:當(dāng)外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體,低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,以達到解污染物的目的!
低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為:在外加電場的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量高能電子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì),或使有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o害或低害物質(zhì),從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在leV~10eV,適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實現(xiàn)一般情況下難以實現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。
電場的設(shè)計使廢氣粒子的運動速度較低,一般在零點幾秒內(nèi)便能使廢氣粒子荷上足夠的電荷,帶電粒子在電場中會受到電場力(庫侖力)的作用,其結(jié)果是油煙粒子被吸附到陽極上,因此凈化率非常高,而且特別適用于捕捉粒徑較小和重量較輕的廢氣粒子。






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