銠靶 鋨靶 銥靶 鈀靶 釕靶

 金（Au）靶材 ，金（Au）絲，金（Au）顆粒，金（Au）棒，金錫合金焊絲焊料，金合金靶材，磁控濺射鍍膜金（Au）靶材 ，反應磁控濺射金(Au)靶材 ，離子鍍?yōu)R射金(Au)靶材，離子束濺射金(Au)靶材，圓片圓形金（Au）靶材，高純金(Au)靶材，金屬金(Au)靶材，金（Au）靶材定做  ，金（Au）靶材純度99.99%-99.999% ，進口金(Au)靶材，科研用金(Au)靶材，實驗用金(Au)靶材。                                        

物理性質(zhì)

 顏色

黃金色金屬

 密度

19.32g/cm3

 熔點

1064℃

技術(shù)指標

 純度

4N-6N

 相對致密度

>99%

 公差

±0.1mm

 晶粒度

均勻

材質(zhì)

高純Au

品牌

日科

網(wǎng)址

產(chǎn)地

臺灣

產(chǎn)品規(guī)格

 根據(jù)客戶需要進行定制，來樣加工，來圖加工

最少起訂量

1pcs

供貨能力

同批次，同材質(zhì)，持續(xù)可靠供應，500pcs/月

交貨期

單片材料5個工日發(fā)貨，批量材料15個工作日發(fā)貨

制作工藝

真空磁懸浮熔煉，熱壓，熱等靜壓，特殊熔煉，澆鑄成錠，熱機械處理，加工中心

適用儀器

各類型號磁控濺射設(shè)備。

產(chǎn)品用途

實驗或研究級別用金靶材 ，半導體和微電子，光電，航天航空，裝飾，功能薄膜等。

認   證

ISO9001，ISO14001，SGS

產(chǎn)品優(yōu)點

 ，高純度，惠

 高真空熔煉，濕法提純制備，電子束熔煉提純，化學法提純，純度高，雜質(zhì)少

 反復鍛造，進口軋機軋制，氣氛保護，氧化少，成型可塑

 相對致密度高，晶粒均勻等軸，一致性高

 薄膜均勻，耐腐蝕性高，薄膜牢固度好。