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[ap等離子清洗機(jī)

plasma清洗原理]

東莞市等離子清洗機(jī)清洗廠家

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[ap等離子清洗機(jī) plasma清洗原理]

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  • 品牌: 晟鼎
  • 型號(hào): spv50
  • 加工定制:
  • 規(guī)格: 常規(guī)
  • 適用范圍: 電子行業(yè),半導(dǎo)體行業(yè),膠水行業(yè)等

等離子體清洗好處,對(duì)PTFE進(jìn)行等離子活化處理,蝕刻工藝,為彈性密封件和PTFE密封件研發(fā)了很好的等離子工藝,并得到了應(yīng)用,等離子體清洗與其它清洗方式對(duì)比表.

等離子體清洗好處:

?。?、其除去了有機(jī)層(含碳污染物),其會(huì)受到例如, 氧氣 和空氣的化 腐蝕,通過超壓吹掃,將其從表面去除。

   通過等離子體中的高能量粒子,臟污會(huì)轉(zhuǎn)化為 穩(wěn)定的小型分子 ,并借此將其移除,處理過程中臟污的厚度只允許達(dá)到 幾百納米 ,因?yàn)榈入x子的速度僅能夠達(dá)到每次幾 nm。

   脂肪含有諸如鋰化合物之類的成分。僅能夠除去其 有機(jī)成分 。這一點(diǎn)同樣適用于指紋。故此,建議戴手套。

 2、還原氧化物

   金屬氧化物會(huì)和工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。作為工藝氣體,使用了氫氣和氬氣或氮?dú)獾幕旌衔铩5入x子體射流的熱效應(yīng)可能會(huì)導(dǎo)致進(jìn)一步的氧化。故此建議在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行處理。

常壓等離子處理主要用于哪些方面?

  這種技術(shù)非常適用于以下工藝過程:

?。薄⒃谡澈现皩?duì)塑料進(jìn)行局部的等離子活化處理

?。病⒃谡澈?、植絨、印刷(例如,汽車行業(yè)中的橡膠型材)之前,對(duì)彈性體進(jìn)行等離子活化處理

?。场⒃谡澈匣蛘哒辰又埃瑢?duì)金屬和陶瓷表面進(jìn)行局部的等離子活化處理

?。?、極為適合在直接于移印機(jī)中移印之前,對(duì)塑料零部件進(jìn)行處理。

用常壓等離子體進(jìn)行活化處理能夠?yàn)槲覀儙砟男┲饕獌?yōu)勢?

 技術(shù)適用于在線工藝,例如,在對(duì)連續(xù)型橡膠型材、軟管進(jìn)行印刷、膠粘,植絨或者涂層之前進(jìn)行等離子活化。

 等離子體清洗與其它清洗方式對(duì)比表:

應(yīng)用用途和特性

低壓等離子體的優(yōu)點(diǎn)

低壓等離子體的缺點(diǎn)

常壓等離子體的優(yōu)點(diǎn)

常壓等離子體的缺點(diǎn)

普通的等離子體生成

在等離子腔體室中均勻分布等離子體,腔室體積可變

復(fù)雜的真空技術(shù),在線等離子處理應(yīng)用受到一定的限制

可以直接在輸送帶上進(jìn)行等離子處理,適用于在線處理,無需任何真空技術(shù)

由于等離子體激發(fā)原理的原因,等離子處理痕跡有限,處理較大的對(duì)象的時(shí)候,必須使用多個(gè)噴嘴

對(duì)金屬進(jìn)行處理

可對(duì)易氧化的對(duì)象進(jìn)行等離子清洗

進(jìn)行微波激發(fā)的時(shí)候,對(duì)象上可能會(huì)相應(yīng)產(chǎn)生能量,這會(huì)造成對(duì)象過熱

對(duì)鋁進(jìn)行等離子處理的時(shí)候,可以生成很薄的氧化層

對(duì)易氧化的對(duì)象進(jìn)行等離子清洗,受到一定的限制

對(duì)聚合物彈性體進(jìn)行處理

無法對(duì)PTFE進(jìn)行等離子活化處理,蝕刻工藝,為彈性密封件和PTFE密封件研發(fā)了很好的等離子工藝,并得到了應(yīng)用

某些材料需要用到較大型的泵,以便達(dá)到必須的工藝壓力

無法對(duì)連續(xù)型對(duì)象進(jìn)行預(yù)處理,工藝時(shí)間很短

等離子射流的溫度為約 200 - 300 °C。必須對(duì)表面的工藝溫度進(jìn)行很好的調(diào)節(jié),以防止著火(很薄的材料)

3D對(duì)象

對(duì)等離子體腔室中的所有對(duì)象進(jìn)行均勻處理。即使是中空腔室也可以從內(nèi)部進(jìn)行處理(例如,點(diǎn)火線圈、水箱等)

未知

可進(jìn)行局部表面處理(例如,粘結(jié)槽口)

需要使用復(fù)雜的多關(guān)節(jié)型機(jī)器人技術(shù)。常壓等離子體的間隙滲透性受到一定的限制

散裝部件

通過轉(zhuǎn)鼓法可以對(duì)散裝部件進(jìn)行均勻的等離子處理。零部件的件數(shù)和體積可以有所不同

其僅能夠使用轉(zhuǎn)鼓的 1/3 體積(建議)

可以直接在輸送帶上處理對(duì)象

對(duì)象必須極為的定位在輸送帶上

電子,半導(dǎo)體技術(shù)

借助低壓等離子體對(duì)電子元件、電路板和半導(dǎo)體部件進(jìn)行等離子處理是進(jìn)的技術(shù)。

未知

金屬或者 ITO 觸點(diǎn)可在粘接處理之前進(jìn)行等離子預(yù)處理(例如,LCD、TFT 和芯片的生產(chǎn))

涂層工藝

生成均勻的涂層。研發(fā)了很多 PECVD 和 PVD 工藝,并得到了應(yīng)用

可能會(huì)造成等離子體腔室的污染

具有很多的工業(yè)用途

尚不具有任何的工業(yè)用途

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