價格: 電議
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[硅化鉿靶材 HfSi2靶材 磁控濺射靶材]
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硅化鉿靶材 HfSi2靶材 磁控濺射靶材 電子束蒸發(fā)料
純度:99.5%
| 中文名 | 硅化鉿 | 英文名 | Hafnium silicide |
| EINECS | 235-640-1 | 分子式 | HfSi2 |
| 分子量 | 242.62 | 穩(wěn)定性 | 常溫常壓下穩(wěn)定 |

注冊資金:500萬-1000萬
聯(lián)系人:劉東
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