衡水、/塑料真空電鍍

真空電鍍以下優(yōu)點(diǎn)： 1.沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系. 真空電鍍及工藝流程 真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。 加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。 在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。 置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。 在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低（?10-5Pa?）。 鍍層厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90% ,真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高．而相對(duì)其他的鍍膜法來說，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用． 真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、ABS+PC料、PC料的產(chǎn)品.同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴.現(xiàn)對(duì)其工藝流程作簡要介紹：產(chǎn)品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝. 一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件，在注塑時(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會(huì)出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以后，會(huì)形成一個(gè)光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn)． 真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等. 水電鍍因工藝較簡單，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻，從而被廣泛應(yīng)用.但水電鍍有個(gè)弱點(diǎn)，只能鍍ABS料和ABS+PC料（此料鍍的效果也不是很理想）.而ABS料耐溫只有80℃,這使得它的應(yīng)用范圍被限制了.而真空電鍍可達(dá)200℃左右，這對(duì)使用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了.像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫.另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在最后噴一層UV油，這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時(shí)又保證附著力. 兩種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)： A、簡單來說，真空電鍍不過UV油，其附著力很差，無法過百格TEST，而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理,成本當(dāng)然高些. B、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對(duì)于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了.而真空電鍍可以解決七彩色的問題. C、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“”，這是非環(huán)保材料.對(duì)于“”有如下的要求： 歐盟：?76769EEC：禁止使用；9462EC：100ppm； ROHS：1000ppm?如此嚴(yán)格的要求，國內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價(jià)鉻”來替代“”；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求. 簡單一點(diǎn)，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術(shù). 它有真空蒸發(fā)鍍，濺射鍍，離子鍍等，獲得這些沉積方法的途徑有多種：電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法，可以根據(jù)的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備. 相對(duì)于傳統(tǒng)的濕發(fā)電鍍，真空電鍍具有以下優(yōu)點(diǎn)： 1.沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系. 2.節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達(dá)到節(jié)約的目的. 3.無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對(duì)環(huán)境的危害相當(dāng)小. 但是由于獲得真空和等離子體的儀器設(shè)備精密昂貴，而且沉積工藝還掌握在少數(shù)技術(shù)人員手中，沒有大量被推廣，其投資和日常生產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用昂貴.但是隨著社會(huì)的不斷進(jìn)步，真空電鍍的優(yōu)勢會(huì)越來越明顯，在某些行業(yè)取代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢所趨！ 真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高．而相對(duì)其他的鍍膜法來說，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用． 真空電鍍,這個(gè)詞不確切.不能歸屬于電鍍.當(dāng)然也有叫干法鍍,通常叫真空鍍離子鍍等. 學(xué)科上,我們認(rèn)為主要考慮鍍層與基體的結(jié)合性質(zhì)機(jī)械附著還是冶金結(jié)合,把它擴(kuò)大范圍統(tǒng)稱為氣相沉積,有如類 氣相沉積分化學(xué)氣相沉積 物相沉積 化學(xué)氣相沉積高溫中溫低溫 物相沉積真空蒸鍍離子鍍.... 其中低溫氣相沉積實(shí)際是用低溫等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積.是一種實(shí)用性強(qiáng)的工模具強(qiáng)化技術(shù).