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磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 硼化鉻靶CrBCrB2Cr2B4 磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 硼化鉻靶CrBCrB2Cr2B4 磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 硼化鉻靶CrBCrB2Cr2B4 磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 硼化鉻靶CrBCrB2Cr2B4

磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 硼化鉻靶CrBCrB2Cr2B4

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北京市硼化鉻靶廠家

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[硼化鉻靶材 CrB靶材 CrB2靶材 Cr2B4靶材 磁控濺射靶材 電子束鍍膜蒸發(fā)料]

磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 硼化鉻靶CrBCrB2Cr2B4
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詳細信息(磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 硼化鉻靶CrBCrB2Cr2B4)
  • 品名: 其他
  • 牌號: 硼化鉻靶材
  • 產(chǎn)地: 北京
  • 稀土含量≥: 99.99%
  • 雜質(zhì)含量: 0.01%
  • 重量: 0.05
  • 靶材: 磁控濺射靶材

硼化鉻靶CrBCrB2Cr2B4磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 

產(chǎn)品介紹
    化學式CrB。分子量62.81。斜方系晶體。熔點1550℃,相對密度6.17。制法:在電爐中加熱金屬鉻和硼的混合物可得。用途:用作冶金添加劑和耐火材料。
產(chǎn)品參數(shù)

中文名稱 硼化鉻    分子式 B2Cr
分子量 73.62      熔點 1550°C
密度 5.15g/cm3


   陶瓷靶材采用常壓燒結(jié),氣氛燒結(jié),熱等靜壓燒結(jié)等工藝,嚴格控制原料的純度,成分及成型坯料額設(shè)計尺寸,坯料經(jīng)過精密機械加工成靶材,可根據(jù)客戶要求定制加工特殊摻雜比例靶材。

產(chǎn)品優(yōu)勢        靶材純度高,致密度高,成分均勻 廠家直銷
產(chǎn)品規(guī)格        圖片靶材,矩形靶材,圓柱靶材,臺階片靶材,管型靶材,根據(jù)客戶的圖紙定制
產(chǎn)品用途 磁控濺射鍍膜材料等
產(chǎn)品附件 正式報價單/購銷合同/裝箱單/材質(zhì)分析檢測單
適用儀器 各類型號磁控濺射設(shè)備
服務項目  靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制??蒲袉挝回浀礁犊?,,售后無憂
加工流程  熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
廠家優(yōu)勢
   廠家直銷
   收貨后7日內(nèi)可協(xié)商退換貨
   靶材種類齊全

支持合金靶材定制,請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例(重量比或原子比)、規(guī)格,我們會盡快為您報價?。?br /> 本網(wǎng)站價格只做參考,期待您的垂詢! 
服務項目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制??蒲袉挝回浀礁犊?,,售后無憂!
產(chǎn)品附件:發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/
適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 
質(zhì)量控制:嚴格控制生產(chǎn)工藝,采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質(zhì)檢報告。 
加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3等高純氧化物鍍膜材料。


2.氟化物:氟化釹NbF3,BaF2,氟化鈰CeF3,氟化鎂MgF2,氟化釔YF3,氟化鐿YbF3,氟化鉺ErF3等高純氟化物。


3.其它化合物:硫化鋅ZnS,ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3等真空鍍膜材料。


4.金屬鍍膜材料:高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,銅銦鎵合金CuInGa,銅銦鎵硒合金CuInGaSe,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合



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