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Chemours 科慕 清潔頭疊組件和光學(xué)設(shè)備的鏡頭用清洗劑 Vertrel XP Chemours 科慕 清潔頭疊組件和光學(xué)設(shè)備的鏡頭用清洗劑 Vertrel XP Chemours 科慕 清潔頭疊組件和光學(xué)設(shè)備的鏡頭用清洗劑 Vertrel XP

Chemours 科慕 清潔頭疊組件和光學(xué)設(shè)備的鏡頭用清洗劑 Vertrel XP

[清洗劑

科慕清洗劑]

上海市Vertrel XP廠家

價格: 電議

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可銷售總量: 999件

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[清洗劑 科慕清洗劑]

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詳細(xì)信息(Chemours 科慕 清潔頭疊組件和光學(xué)設(shè)備的鏡頭用清洗劑 Vertrel XP)
  • 類別: 中性清洗液
  • 型號: 其他
  • 主要用途: 去指紋 去顆粒物
  • 執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn): 美標(biāo)
  • 比重: 1.43

專為極性溶解設(shè)計的特殊混合物


科慕vertrel xp環(huán)保電子清洗劑介紹

Vertrel XP是旨在提高極性固體的溶解能力,非常適合用于蒸氣脫脂設(shè)備。VertrelT XF相比,它提高了極地土壤的償付能力容性。

VetreP XP的臭氧消耗潛力為零,變暖的可能性也很低。它可以在許多應(yīng)用中取代113、1,,11.3氯*烷(1,1,1-TCA)、鹽*-氟碳化合物(HCFC)和全*氟碳化合物(PFKCs) , Vetre XP被美國接受。環(huán)境保護(hù)局(EPA)根據(jù)重要的新替代品政策(SNAP)計劃,作為消耗臭氧層物質(zhì)的替代品。

蒸汽脫脂應(yīng)用于清潔效果和經(jīng)濟(jì)性。建議采用現(xiàn)代蒸汽密封技術(shù),用于批次和內(nèi)聯(lián)設(shè)備。這些系統(tǒng)具有更高的自由板和一組次要的低溫(-29C [-20F)冷凝器線圈,可大幅減少蒸汽損失。

Vertrel XP非常適合清潔金屬和非金屬部件的細(xì)顆粒物。污染物,如灰塵顆粒、皮膚片、纖維和其他工藝污染物,往往通過某些物理力(如靜電力或由于表面幾何形狀造成的機(jī)械誘捕)與部分表面結(jié)合。去除這些污染物需要一種,可以降低層邊界層厚度,使顆粒被液體流過沖走。

薄邊界層和較高的液體流過動量可以通過完成,如高密度、低粘度和低表面張力的Vertrel xP,以便脫粘細(xì)顏粒。典型的應(yīng)用包括磁盤介質(zhì)的噴射前清潔、頭疊組件和光學(xué)設(shè)備的鏡頭。Vertrel XP的多功能性使其可用于其他行業(yè),并具有其他精密清潔應(yīng)用。

Vertrel? X-P10 與大多數(shù)塑料和彈性體相容。典型應(yīng)用包括吸收干燥以及精密和特殊清洗和沖洗,可去除塑料、玻璃和金屬部件上的顆粒、輕質(zhì)污垢和指紋。

功能和優(yōu)點(diǎn)

功能多樣和極其有效的 Vertrel? X-P10 具有各種關(guān)鍵功能,包括:

  • 高密度、低粘度和低表面張力,可清洗難以觸及的狹窄區(qū)域
  • 適合干燥和清洗顆粒物質(zhì)
  • 臭氧消耗潛值接近零
  • 可在眾多應(yīng)用中替代 CFC-113, 1,1,1-3氯*烷 (1,1,1-TCA)、氫氯氟烴 (HCFC) 和多氟烷烴 (PFC)

 

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