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磁控濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業(yè)。透磁率可以作為評估磁性靶材透磁性能的有效指標,其測試方法還沒有相應的行業(yè)標準,很大程度上制約了國內(nèi)磁性濺射靶材的研發(fā)、制作及工業(yè)化生產(chǎn)。磁控靶的實際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關外,主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同,分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。考慮到濺射靶長期使用老化后,其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同,磁控靶的使用時的承載功率。
注冊資金:1000萬-5000萬
聯(lián)系人:楊永添
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