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二硫化鉬磁控濺射  MOS2氣相沉積 二硫化鉬磁控濺射  MOS2氣相沉積 二硫化鉬磁控濺射  MOS2氣相沉積 二硫化鉬磁控濺射  MOS2氣相沉積

二硫化鉬磁控濺射 MOS2氣相沉積

[二硫化鉬

磁控濺射

MOS2涂層]

上海市二硫化鉬磁控濺射廠家

價(jià)格: 電議

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[二硫化鉬 磁控濺射 MOS2涂層]

二硫化鉬磁控濺射  MOS2氣相沉積
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詳細(xì)信息(二硫化鉬磁控濺射 MOS2氣相沉積)
  • 工件材質(zhì): 噴涂加工
  • 類型: 電鍍
  • 打樣周期: 4-7天
  • 加工周期: 1-3天
  • 年最大加工能力: 100000
  • 年剩余加工能力: 100000
  • 電鍍類型: 鍍鎳加工
產(chǎn)品參數(shù)
工件材質(zhì):噴涂加工 類型:電鍍 打樣周期:4-7天 加工周期:1-3天 年加工能力:100000 年剩余加工能力:100000 電鍍類型:鍍鎳加工
產(chǎn)品特點(diǎn)

Ioduction 介紹 ?Lube620C-G于 20世紀(jì)80年代起源于實(shí)驗(yàn)室,后于2016年開始工業(yè)化批量生產(chǎn),該納米涂層技術(shù)適用于需要耐磨及潤滑的產(chǎn)品,并將高潤滑,高硬度,高精度三位一體的同時(shí)兼顧一定的防腐性,在大多數(shù)運(yùn)動(dòng)部件中有著出色的運(yùn)用和效果。涉及工業(yè)4.0,高端裝備及半導(dǎo)體等眾多企業(yè)也在積極開發(fā)其潛在性能用以提高自身產(chǎn)品性能,使得企業(yè)在快速的產(chǎn)品更迭中占據(jù)技術(shù)優(yōu)勢。 Performance 參數(shù)性能 ?鍍層工作溫度范圍: -190°C-500°C ?厚度:1-3um ?顏色:灰黑色有光澤 ?摩擦系數(shù): 0.05 to 0.09 ?硬度: HV1400-2200 ?導(dǎo)電性:導(dǎo)電 ?粗糙度: 同等于產(chǎn)品基材表面粗糙度(此款鍍層:希望鍍層前素材Ra:0.4以下) ?耐磨性:磨損率小于㎝?/Nm(5mm直徑碳化鎢球,80N壓力,470rpmφ8mm圓周運(yùn)動(dòng)30分鐘) ?附著力:劃痕粘結(jié)力大于120N ?載荷性: 可應(yīng)用于高載荷運(yùn)動(dòng)部件 Application 應(yīng)用 ?低摩擦應(yīng)用部件,齒輪,滑動(dòng)摩擦等運(yùn)動(dòng)部件 ?燃料噴射系統(tǒng) ?紡織縫紉零配件 ?軸承和套圈 ?擠壓、沖壓模具 ?模料成型模,易拉罐噴涂模具防粘鋁粉 ?需要特殊保護(hù)的零件部位

產(chǎn)品實(shí)拍
標(biāo)簽: 二硫化鉬 磁控濺射 MOS2   二硫化鉬 磁控濺射 MOS2涂層   上海市二硫化鉬磁控濺射   上海市二硫化鉬磁控濺射廠家
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聯(lián)系人:黃小姐

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