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實(shí)驗(yàn)室小型真空磁控離子濺射鍍膜儀離子濺射儀

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鄭州市離子濺射儀廠家

價(jià)格： 電議

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詳細(xì)信息（實(shí)驗(yàn)室小型真空磁控離子濺射鍍膜儀離子濺射儀）

加工定制： 是
品牌： 其他
電鍍位置： 其他
鍍種： 真空鍍膜
型號(hào)： KT-Z1650PVD
適用范圍： 金屬靶材鍍膜
產(chǎn)品別名： 小型蒸鍍儀
電鍍電源： 直流電源
規(guī)格： 臺(tái)
樣品臺(tái)： 直徑50mm
最大功率： 1000w
濺射電源： 直流濺射電源

產(chǎn)品參數(shù)

加工定制：是 品牌：其他 電鍍位置：其他 鍍種：真空鍍膜 型號(hào)：KT-Z1650PVD 適用范圍：金屬靶材鍍膜 產(chǎn)品別名：小型蒸鍍儀 電鍍電源：直流電源 規(guī)格：臺(tái) 樣品臺(tái)：直徑50mm 功率：1000w 濺射電源：直流濺射電源

產(chǎn)品特點(diǎn)

實(shí)驗(yàn)室小型真空磁控離子濺射鍍膜儀離子濺射儀小型濺射儀（Sputtering System）是一種利用濺射技術(shù)制備薄膜的設(shè)備，主要用于制備和研究金屬、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。它通常由四個(gè)主要組件組成：真空室、濺射槍、靶材和控制系統(tǒng)。真空室是封閉的金屬或玻璃盒子，用于維持真空環(huán)境，以避免雜質(zhì)和氣體干擾制備過程。濺射槍是用于向靶材表面發(fā)射離子的設(shè)備，它可以控制濺射速率和角度，從而控制薄膜的厚度和均勻性。靶材是被準(zhǔn)備薄膜所需的原材料，其材料和形狀根據(jù)要制備的薄膜類型而變化。控制系統(tǒng)是用于控制整個(gè)設(shè)備的電子和電氣系統(tǒng)，包括真空泵、用于創(chuàng)建和維持真空的電子控制器和電源、濺射槍控制器和監(jiān)控器等。小型濺射儀通常用于研究實(shí)驗(yàn)室或小批量生產(chǎn)，它具有制備穩(wěn)定、純凈、均勻膜的優(yōu)點(diǎn)，可以制備幾納米到數(shù)百納米之間的薄膜。它也被廣泛應(yīng)用于電子器件、太陽(yáng)能電池、顯示器件、硬盤驅(qū)動(dòng)器等領(lǐng)域。

產(chǎn)品實(shí)拍

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