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- 品名： 1#鉻
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鎳鉻靶Ni-Gr鎳鋁靶Ni-A1、鎳釩靶Ni-V 鎳鐵靶Ni-Fe、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，是對(duì)靶材的成分、籌備和性能要求高的領(lǐng)域。 影響磁控靶濺射電壓的幾個(gè)因素 影響磁控靶濺射電壓的主要因素有:靶面磁場(chǎng)、靶材材質(zhì)、氣體壓 強(qiáng)、陰-陽(yáng)極間距等。學(xué)者詳細(xì)分析這些因素距對(duì)靶濺射電壓的影響。 一、靶面磁場(chǎng)對(duì)靶濺射電壓的影響 。磁控靶的陰極工作電壓，隨著靶面磁場(chǎng)的增加而降低，也隨著靶面的 濺射刻蝕槽加深而降低。濺射電流也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而加大。這是 因?yàn)榘械臑R射刻蝕槽面會(huì)越來(lái)越接近靶材后面的磁鋼的強(qiáng)磁場(chǎng)。因此，靶 材的厚度是有限制的。較厚的非磁性靶材能夠在較強(qiáng)的磁場(chǎng)中使用。當(dāng)磁場(chǎng)強(qiáng) 度增加到01T以上時(shí)，磁場(chǎng)強(qiáng)度對(duì)濺射電壓的影響就不明顯了。鐵磁性靶材會(huì)對(duì)磁控靶的濺射造成影響，由于大部分磁力線從鐵磁性 材料內(nèi)部通過(guò)，使靶材表面磁場(chǎng)減少，需要很高電壓才能讓靶面點(diǎn)火起輝。除 非磁場(chǎng)非常的強(qiáng)。否則磁性材靶材必須比非磁性材料要演，才能起輝和正常運(yùn) 行(永磁結(jié)構(gòu)的Ni靶的典型值小于016cm，磁控靶非特殊設(shè)計(jì)值通常不宜 超過(guò)3mmFeco靶的值不超過(guò)2mm;電磁結(jié)構(gòu)的靶可以濺射厚一些的靶 材，甚至可達(dá)6mm厚)才能正常運(yùn)行。
廣州市尤特新材料有限公司
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