焊接結(jié)構(gòu)檢測(cè)技術(shù)新編焊接結(jié)構(gòu)檢測(cè)技術(shù)手冊(cè)
北京市結(jié)構(gòu)檢測(cè)廠家
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1.2 焊接結(jié)構(gòu)的缺陷類型
1.3 檢測(cè)技術(shù)綜述
1.4 各種檢測(cè)方法的優(yōu)缺點(diǎn)
1.5 焊接結(jié)構(gòu)檢測(cè)方法選用原則
1.6 焊接結(jié)構(gòu)檢測(cè)檔案及工藝規(guī)程的要求
第2章 射線檢測(cè)技術(shù)
2.1 射線檢測(cè)的原理
2.1.1 x射線的產(chǎn)生
2.1.2 放射性元素與γ射線
2.1.3 射線與物質(zhì)的相互作用
2.2 射線檢測(cè)設(shè)備
2.2.1 x射線管
2.2.2 γ射線機(jī)
2.2.3 加速器
2.3 射線檢測(cè)工藝
2.3.1 工藝準(zhǔn)備及透照布置
2.3.2 透照工藝參數(shù)的確定
2.3.3 曝光曲線的制作及應(yīng)用
2.3.4 散射線的控制
2.3.5 焊縫透照常規(guī)工藝
2.4 平板對(duì)接焊縫透照技術(shù)
2.4.1 透照布置
2.4.2 有效透照區(qū)與膠片尺寸的確定
2.4.3 透照參數(shù)確定
2.5 環(huán)焊縫透照技術(shù)
2.6 小徑管對(duì)接焊縫透照技術(shù)
2.6.1 透照布置
2.6.2 透照厚度變化
2.6.3 透照次數(shù)
2.6.4 透照參數(shù)的確定
2.6.5 橢圓透照影像質(zhì)量
2.6.6 小徑管橢圓透照一次成像檢出范圍計(jì)算
2.7 變截面焊接接頭透照技術(shù)
2.7.1 適當(dāng)提高管電壓技術(shù)
2.7.2 雙膠片技術(shù)
2.7.3 補(bǔ)償技術(shù)
2.8 球罐γ射線全景曝光技術(shù)
2.8.1 設(shè)備和器材的選擇
2.8.2 工藝程序
2.8.3 曝光時(shí)間的計(jì)算
2.8.4 注意事項(xiàng)
2.8.5 安全管理
2.9 射線檢測(cè)實(shí)時(shí)成像技術(shù)
2.9.1 射線實(shí)時(shí)成像檢測(cè)系統(tǒng)的分類
2.9.2 射線實(shí)時(shí)成像檢測(cè)的原理
2.10 cr與dr技術(shù)
2.10.1 cr技術(shù)
2.10.2 dr技術(shù)
2.11 層析攝影與工業(yè)ct技術(shù)
2.11.1 概述
2.11.2 膠片層析攝影技術(shù)
2.11.3 工業(yè)ct技術(shù)
2.12 高能射線檢測(cè)技術(shù)
2.12.1 高能x射線概述
2.12.2 高能射線檢測(cè)工藝
2.13 中子射線照相技術(shù)
2.13.1 中子射線照相的基本原理
2.13.2 中子射線檢測(cè)的設(shè)備
2.13.3 中子射線檢測(cè)的方法
2.14 射線檢測(cè)工藝規(guī)程的編制實(shí)例
2.15 射線檢測(cè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)
第3章 超聲檢測(cè)技術(shù)
3.1 超聲波檢測(cè)原理
3.1.1 波動(dòng)的概念和超聲波特性
3.1.2 超聲波檢測(cè)方法概述
3.1.3 超聲波探傷儀器和探頭
3.1.4 超聲波探傷試塊
3.2 超聲波檢測(cè)通用技術(shù)
3.2.1 探傷儀的調(diào)節(jié)
3.2.2 缺陷位置的測(cè)定
3.2.3 缺陷反射當(dāng)量或長(zhǎng)度尺寸的測(cè)定
3.2.4 缺陷自身高度的測(cè)定
3.2.5 缺陷性質(zhì)分析與非缺陷回波的判別
……
第4章 滲透檢測(cè)
第5章 渦流檢測(cè)
第6章 磁粉檢測(cè)技術(shù)
第7章 聲發(fā)射檢測(cè)
第8章 焊接接頭的化學(xué)成分和金相組織檢測(cè)
第9章 焊接結(jié)構(gòu)的力學(xué)性能檢驗(yàn)
第10章 其它檢驗(yàn)檢測(cè)技術(shù)
參考文獻(xiàn)
第2章射線檢測(cè)技術(shù)
2.1射線檢測(cè)的原理
2.1.1x射線的產(chǎn)生
當(dāng)高速運(yùn)動(dòng)的電子被阻止時(shí)，伴隨著電子動(dòng)能的消失和轉(zhuǎn)化，能夠產(chǎn)生x射線?，F(xiàn)在應(yīng)用的所有x射線裝置，都是利用高速運(yùn)動(dòng)電子去轟擊靶物而產(chǎn)生的，分析總結(jié)應(yīng)用各種不同裝置產(chǎn)生x射線的實(shí)驗(yàn)，人們發(fā)現(xiàn)：為了獲得x射線，必須具備以下三個(gè)條件。
①產(chǎn)生并發(fā)射自由電子，從而獲得自由電子源。例如，可以應(yīng)用真空中的熱電子發(fā)射。
②在真空中，沿一定方向加速自由電子，從而獲得具有極高速度和動(dòng)能作定向運(yùn)動(dòng)的打靶電子流。在一般工業(yè)x射線管中往往用直流高壓電場(chǎng)加速電子，而在產(chǎn)生高能射線的加速器中應(yīng)用高能的電磁場(chǎng)加速電子。要求一個(gè)較高真空度的空間，主要是為加速提供一個(gè)通道，避免在加速過程中與氣體分子碰撞而降低能量。同時(shí)，也能保護(hù)燈絲及靶材料，不致因氧化而被燒毀。
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