供應(yīng)堿腐蝕清洗機(jī)廠家報(bào)價(jià)/堿腐蝕清洗機(jī)批發(fā)價(jià)

參數(shù)

酸腐蝕工藝

堿腐蝕工藝

腐蝕特性

各向同性

各向異性

腐蝕反應(yīng)的熱量

放熱

吸熱

表面平坦度

（

STIR\TIR\TTV

）

需要依靠晶片的旋轉(zhuǎn)、

特制的

夾具、

通氣體充分?jǐn)嚢韪g液

等特殊機(jī)構(gòu)及工藝手段來(lái)改

善其表面平坦度

不需要特殊機(jī)構(gòu)便可達(dá)到一

定的表面平坦度

腐蝕后表面粗糙度（

Ra

）

比堿腐蝕工藝小，

與晶片原有

的損傷程度有關(guān)

比酸腐蝕工藝大，

與晶片原有

的損傷程度有關(guān)

硅片表面殘留的微粒

原先就已存在于晶片表面上

的微粒就難去掉，

較低的表面

粗糙度不容易吸附微粒

原先就已存在于晶片表面上

的微粒容易去掉，

較差的表面

粗糙度容易吸附微粒

金屬污染程度

(Cu\Ni) 

腐蝕液的純度比較高，

腐蝕溫

度較低，金屬擴(kuò)散程度小

腐蝕液的純度比較差，

腐蝕溫

度高，金屬擴(kuò)散程度大，

（

111

）晶向比（

100

）晶向

嚴(yán)重

表面腐蝕斑點(diǎn)殘留印痕

晶片從腐蝕液轉(zhuǎn)移到水中時(shí)

間必須小于

0.6s

，才能有效

防止斑痕的產(chǎn)生，

較低電阻率

的晶片比較容易產(chǎn)生斑痕

晶片從腐蝕液轉(zhuǎn)移到水中的

時(shí)間必須小于

2s

，才能有效

防止斑痕的產(chǎn)生，

與晶片的電

阻率無(wú)關(guān)

腐蝕液槽的使用壽命

比較短

比較長(zhǎng)

加工成本

所用化學(xué)試劑比堿腐蝕用化

學(xué)試劑費(fèi)用約貴

2

倍左右

所用化學(xué)試劑費(fèi)用較便宜

環(huán)境保護(hù)處理

環(huán)保處理相對(duì)比較復(fù)雜

環(huán)保處理相對(duì)比較容易