[無堿銅 光亮劑 金屬直接鍍銅]
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HN-NC無堿性鍍銅
鍍液組成及操作工藝
鍍液組成:
開缸劑HN-NC1 250-500毫升/升
添加劑HN-NC2 80-120毫升/升
調(diào)整劑HN-NC3 40-80毫升/升
碳酸鉀(CP級) 30-50克/升
操作條件與工藝:
PH值 9.2-10.0
溫度 55-65℃
陰極電流密度(掛鍍) 0.5-2.7安培/平方分米
陰極電流密度(滾鍍) 0.2-0.9安培/平方分米
陽極 無氧電解銅(>99.95%)
惰性陽極 高純石墨或304、316不銹鋼
過濾 大容量循環(huán)過濾
攪拌方法 強有力的空氣攪拌
消耗量:
開缸劑HN-NC1 濃縮液體,用于配缸及銅離子濃度的補充,亦含有其他鍍液平衡成分
添加劑HN-NC2 日常單一添加,作為陽極銅溶解的促進劑和絡合劑,HN-NC2的消耗量為470-940毫升/1000安培小時
調(diào)整劑HN-NC3 鍍液的PH值的調(diào)整和緩沖液
用途和特性
1. 可用于鋼鐵件、銅、鋅合金件的直接鍍銅,以取代化鍍銅工藝;
2. 鍍層光亮,結(jié)合力極好,隨后可鍍酸銅或光亮鎳;
3. 鍍液分散能力好,可用于掛鍍或滾鍍;
4. 鍍液穩(wěn)定,容易操作維護。


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