供應(yīng)平面細(xì)磨劑、精磨劑、精磨液廠家

產(chǎn)品簡述
   細(xì)磨劑屬于高拋光速率，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達(dá)到高速拋光的目的高純度（含量小于50 ppb），有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污等材料的膠體粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理損傷，達(dá)到高平坦化加工.

特性參數(shù)
外觀　　　?。喝榘咨頎钜后w
比重　　　?。?.20 ± 0.02
固含量　　　?。?0.0 ± 1.0 %
有效含量　?。?gt; 40 %
pH值　　　　：8.0 ± 1.0
平均原生粒徑：30 -100nm 

使用注意事項(xiàng)
由于產(chǎn)品在貯存一段時(shí)間后，會(huì)逐漸增稠甚至呈凍狀，所以在使用時(shí)建議以水：溶液= 1：1的比例兌稀，并建議使用分散設(shè)備攪拌均勻（效果更好）后再添加。在添加時(shí)，還應(yīng)該注意體系的粘度，避免由于基料粘度太低或剪切速率低而導(dǎo)致的重絮凝問題。

應(yīng)用范圍
廣泛用于納米級(jí)的化學(xué)機(jī)械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、硬盤盤片、手機(jī)配件、電腦配件、顯示屏、寶石等納米級(jí)及亞納米級(jí)拋光加工。