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供應(yīng)非晶硅激光刻膜機(jī)-優(yōu)質(zhì)激光刻膜機(jī)

武漢市非晶硅激光刻膜機(jī)優(yōu)質(zhì)激光刻膜機(jī)廠家

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SEF-G5：激光刻膜機(jī)　
產(chǎn)品特點(diǎn):半導(dǎo)體端面泵浦光纖耦合全固態(tài)激光器；膜面朝上非接觸式工作臺(tái)；直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)；四路同步輸出；自動(dòng)識(shí)別跟蹤定位；自動(dòng)進(jìn)出料；在線監(jiān)測；靜態(tài)顯示　
技術(shù)參數(shù):　
型號(hào)規(guī)格：SEF-G5
有效加工幅面：1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）　
運(yùn)行速度：2000mm/s
重復(fù)定位精度：±10μm  　
刻線直線度：±10μm / 1000 mm  　
典型刻膜線寬：30～60μm 　
三線外沿總寬度：300～500μm   　
選項(xiàng)和配件：　
高標(biāo)配，可根據(jù)需要移除不需要的部件。　
應(yīng)用和市場：非晶硅薄膜太陽電池的透明導(dǎo)電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、CdTe薄膜）。　
　
　
var current,timer; function initialize() { timer=setInterval("scrollwindow()",25); } function sc(){ if (event.button==1){ clearInterval(timer); } } function scrollwindow() { current=document.body.scrollTop; window.scroll(0,++current); if (current != document.body.scrollTop) clearInterval(timer); } document.onmousedown=sc document.ondblclick=initialize 標(biāo)簽：武漢市非晶硅激光刻膜機(jī)優(yōu)質(zhì)激光刻膜機(jī) 武漢市非晶硅激光刻膜機(jī)優(yōu)質(zhì)激光刻膜機(jī)廠家