濺射靶材公司、眾誠達(dá)應(yīng)用材料公司(在線咨詢)、濺射靶材

靶材的分類

       根據(jù)應(yīng)用主要包括半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材、記錄介質(zhì)用靶材、顯示薄膜用靶材、光學(xué)靶材、超導(dǎo)靶材等。其中半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材、記錄介質(zhì)用靶材和顯示靶材是市場規(guī)模大的三類靶材。

       靶材形狀有長方體、正方體、圓柱體和不規(guī)則形狀。長方體、正方體和圓柱體形靶材為實(shí)心，濺射靶材公司，濺射過程中，圓環(huán)形永磁體在靶材表面建立環(huán)形磁場，在軸間等距離的環(huán)形表面上形成刻蝕區(qū)，濺射靶材，其缺點(diǎn)是薄膜沉積厚度均勻性不易控制，濺射靶材廠家，靶材的利用率較低，僅為20%~30%。目前國內(nèi)外都在推廣應(yīng)用旋轉(zhuǎn)空心圓管磁控濺射靶，其優(yōu)點(diǎn)是靶材可繞固定的條狀磁鐵組件旋轉(zhuǎn)，因而360°靶面可被均勻刻蝕，利用率高達(dá)80%。

靶材的制備工藝

       目前制備靶材的方法主要有鑄造法和粉末冶金法。

       鑄造法；將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金熔液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經(jīng)機(jī)械加工制成靶材。鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。其優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低，密度高，可大型化；缺點(diǎn)是對(duì)熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。

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