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靶材的制備工藝
目前制備靶材的方法主要有鑄造法和粉末冶金法。
鑄造法;將一定成分配比的合金原料熔煉,靶材綁定,再將合金熔液澆注于模具中,形成鑄錠,最后經(jīng)機械加工制成靶材。鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。其優(yōu)點是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量)低,靶,密度高,可大型化;缺點是對熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬,普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。

深圳市眾誠達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司旋轉(zhuǎn)鉬鈮、旋轉(zhuǎn)鋁釹靶材
產(chǎn)品詳情
一、靶材應(yīng)用:觸控屏行業(yè)
二、電容式/電阻式觸摸屏靶材

深圳市眾誠達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司工廠主要生產(chǎn)陶瓷、金屬、合金、化合物等多種濺射靶材,并為客戶提供背板與幫定服務(wù)。
靶材的分類
根據(jù)應(yīng)用主要包括半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材、記錄介質(zhì)用靶材、顯示薄膜用靶材、光學(xué)靶材、超導(dǎo)靶材等。其中半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材、記錄介質(zhì)用靶材和顯示靶材是市場規(guī)模大的三類靶材。
靶材形狀有長方體、正方體、圓柱體和不規(guī)則形狀。長方體、正方體和圓柱體形靶材為實心,陶瓷靶材,濺射過程中,圓環(huán)形永磁體在靶材表面建立環(huán)形磁場,在軸間等距離的環(huán)形表面上形成刻蝕區(qū),其缺點是薄膜沉積厚度均勻性不易控制,靶材的利用率較低,僅為20%~30%。目前國內(nèi)外都在推廣應(yīng)用旋轉(zhuǎn)空心圓管磁控濺射靶,其優(yōu)點是靶材可繞固定的條狀磁鐵組件旋轉(zhuǎn),因而360°靶面可被均勻刻蝕,利用率高達(dá)80%。


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