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東莞市真空電鍍工藝廠家

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為了更好的配合市場的腳步,配合國際品牌的品質(zhì)要求,千屹真空電鍍加工的每款產(chǎn)品都嚴(yán)格把關(guān)進(jìn)行性能測試,其中測試包括:鹽霧測試、耐磨測試、硬度測試、RCA附著力測試、色差儀檢測、百格測試、高低溫、人工汗測試、膜層分析、膜厚測試等。 核心工藝為PVD真空電鍍。適用于鋼飾、銅鏈、穿刺、鐘表、皮帶頭、漁具、...、相機(jī)、導(dǎo)航器、筆記本、硬盤、U盤、3C產(chǎn)品、高爾夫球頭、眼鏡、廚衛(wèi)五金、燈飾、工藝品、箱包配件等在不銹鋼、鎢鋼、鈦材、銅材、銀材、鋅合金等五金基材上的表面處理加工。 功效:高抗磨;高耐溫;高物性;符合ROHS標(biāo)準(zhǔn);通過鹽霧、耐磨、人工汗、硬度、RCA、附著力等常規(guī)測試。 PVD真空電鍍主要工藝有:可鍍IPG14K、18K、24K金、IPG玫瑰金、IP黃、仿金色、鈦金色、鋯


離子鍍膜的均勻性要求 

pvd 真空鍍膜,離子鍍膜膜層的均與性主要包括成分均勻、組織結(jié)構(gòu)均勻和膜厚均勻,最終保證膜層各種性能均勻。材料的性能由其誠分與組織結(jié)構(gòu)所決定,膜層必須獲得所設(shè)計的膜系成分和組織結(jié)構(gòu)均勻一致。薄膜是二維材料,膜的厚度是重要的材料技術(shù)指標(biāo)。比如薄膜的干涉顯色,耐腐蝕性和耐磨性都與膜厚密切相關(guān),膜厚均勻保證薄膜相關(guān)的性能均勻。

   離子鍍膜膜層的成分來源于鍍料,或者說來源于蒸發(fā)源和濺射靶的材料以及反應(yīng)氣體。這些沉積物的物種及其比例,在沉積過程要穩(wěn)定供給。

   離子鍍膜膜層的組織結(jié)構(gòu)除了決定于沉積物料的成分外,還取決于沉積粒子的能量、粒子入射角度和基體溫度等,在沉積過程中要求保持一致。

   離子鍍膜膜層的厚度取決沉積物的總量,當(dāng)然以膜致密度相同為前提。

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