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控制試樣
在實際工作中,由于試樣和標準樣品的冶金過程和某些物理狀態(tài)的差異,常常使工作曲線發(fā)生變化,通常標準樣品多為鍛造和軋制狀態(tài),而日常分析為澆鑄狀態(tài)。為了避免試樣因冶金狀態(tài)變化給分析結果帶影響,常常應使用一個與分析試樣冶金狀態(tài)和物理狀態(tài)都一樣的控樣,CCD直讀光譜儀,來控制分析結果,控樣的元素含量應位于工作曲線含量范圍內(nèi),并與分析試樣的含量越接近越好。同時,直讀光譜儀廠商,控制樣品的元素含量應當準確可靠,成份分布均勻,外觀無氣孔、砂眼、裂紋等物理缺陷。

用紅外光譜法研究高分子材料時,優(yōu)質(zhì)CCD光譜儀,影響頻率位移和圖譜質(zhì)量的因素有哪些?
A:
1、影響頻率位移的因素
①外部因素
物理狀態(tài)的影響:同一個樣品不同相態(tài)(氣、液、固),它們的光譜有很大差別,這與分子間相互作用力有關;
的影響:同一物質(zhì)在不同的中,由于溶質(zhì)與的相互作用不同,泊頭光譜儀,因此測得的光譜吸收帶頻率也不同;
粒度的影響:主要由散射引起。粒度越大,基線上升,峰寬而強度低,反之亦然;
②內(nèi)部因素
主要是分子內(nèi)部結構的原因引起的變化:如誘導效應、共軛效應、鍵應力和空間效應、氫鍵效應、耦合效應、費米共振。


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