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真空電鍍|不銹鋼真空電鍍|PVD真空電鍍費(fèi)用

東莞市真空電鍍氧化廠家

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物理的氣相沉積法依據(jù)制作過程工藝不同又分為真空蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍膜。

a.真空蒸發(fā)鍍膜法：在真空室(鍍爐)中加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到固體

(待鍍產(chǎn)品)表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。

b.離子鍍膜法：蒸發(fā)源的加熱和真空鍍膜法相同。由于系統(tǒng)為等離子狀態(tài)，使金屬離子在樣品表面吸附?成膜。金屬離子為高能量狀態(tài)，成膜時具有離子結(jié)晶性佳、膜的密著性提高的優(yōu)點(diǎn)。

c.濺射鍍膜法：給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在樣品表面形成金屬皮膜的方法。

生產(chǎn)過程時間局限性：因金屬鍍層長時間露置在空氣中會氧化發(fā)黑，不同材料氧化速度不同，其中錫鍍層氧化速度最快，8H就會明顯發(fā)黑，另底漆UV靜置時間如過長，漆膜太厚也會影響鍍膜層附著力。故底漆UV、鍍膜及面涂UV幾個工序之間作業(yè)時間間隔依據(jù)實(shí)際作業(yè)經(jīng)驗(yàn)一般限定在8-12H范圍內(nèi)。

故產(chǎn)品單位涂料用量及成本明顯比普通塑膠噴涂高出很多，另底漆UV、面涂UV及色精對UV能量范圍的要求也較普通UV苛刻，一般底漆UV要求800-1000mj/cm2 面涂UV要求900-1100 mj/cm2不同顏色精根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整UV燈能量。

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