科學(xué)技術(shù)的發(fā)展不斷推動(dòng)著半導(dǎo)體的發(fā)展。自動(dòng)化和計(jì)算機(jī)等技術(shù)發(fā)展,使硅片(集成電路)這種高技術(shù)產(chǎn)品的造價(jià)已降到十分低廉的程度。一臺(tái)微型電子計(jì)算機(jī)的售價(jià),硅片回收,也只不過數(shù)百元。這樣就為電子計(jì)算機(jī)進(jìn)入千家萬戶鋪平了道路。使我們的生活越來越現(xiàn)代化。
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介紹半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于表面污染雜質(zhì),包括有機(jī)物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。
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放射示蹤原子分析和質(zhì)譜分析表明,采用雙氧水體系清洗硅片效果好,同時(shí)所用的全部化學(xué)試劑 H2O2、NH4OH、HCl能夠完全揮發(fā)掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片時(shí),舊的臟的碎硅片回收,在硅片表面會(huì)留下約2×1010原子每平方厘米的硫原子,庫存二手光伏硅片回收,用后一種酸性清洗液時(shí)可以完全被。用H2O2體系清洗硅片無殘留物,有害性小,也有利于工人健康和環(huán)境保護(hù)。硅片清洗中用各步清洗液處理后,都要用超純水沖洗。
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