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金屬靶材
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

濺射靶材使用指南及注意事項(xiàng)
靶材預(yù)濺射
靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射,可以起到清潔靶材表面的作用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率,陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時(shí)/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊,一個(gè)合理的功率加大速率為1.5W小時(shí)/平方厘米。
在進(jìn)行預(yù)濺射的同時(shí)需要檢查靶材起弧狀況,預(yù)濺射時(shí)間一般為10分鐘左右。如沒有起弧現(xiàn)象,繼續(xù)提升濺射功率到設(shè)定功率。根據(jù)經(jīng)驗(yàn),金屬靶材可承受的濺射功率為25watts/平方厘米,陶瓷靶材為10watts/平方厘米。請(qǐng)同時(shí)參考用戶系統(tǒng)操作手冊(cè)中關(guān)于濺射時(shí)真空腔體壓力的設(shè)定根據(jù)經(jīng)驗(yàn),一般應(yīng)確保冷卻水出水口的水溫應(yīng)低于35攝氏度,但最重要的是確保冷卻水的循環(huán)系統(tǒng)能有效工作,通過冷卻水的快速循環(huán)帶走熱量,是確保能以較高功率連續(xù)濺射的一項(xiàng)重要保障。對(duì)于金屬靶材一般建議冷卻水流量為20LPM水壓在5GMP左右;對(duì)于陶瓷靶材一般建議水流量在30LPM水壓在9GMP左右。

石久高研專注15年提供高純金屬靶材 、高純靶材歡迎來電咨詢~~~





濺射靶材
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

靶中毒的解決辦法
1、采用中頻電源或射頻電源。
2、采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。
3、采用孿生靶
4、控制鍍膜模式的變換:在鍍膜前,采集靶中毒的遲滯效應(yīng)曲線,使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿,確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。

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減反射膜
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,鉑靶批發(fā)價(jià)格,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供的靶材和蒸發(fā)料。公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

原理
減反射膜是以光的波動(dòng)性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個(gè)振幅相同,波長(zhǎng)相同的光波疊加,那么光波的振幅增強(qiáng);如果二個(gè)光波原由相同,波程相差,如果這二個(gè)光波疊加,那么互相抵消了。減反射膜就是利用了這個(gè)原理,在鏡片的表面鍍上減反射膜,使得膜層前后表面產(chǎn)生的反射光互相干擾,從而抵消了反射光,鉑靶,達(dá)到減反射的效果。
1)振幅條件
膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。
2)位相條件
膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的1/4波長(zhǎng)。d=λ/4 λ=555nm時(shí),d=555/4=139nm
對(duì)于減反射膜層,許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波(波長(zhǎng)為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過?。ā?39nm),反射光會(huì)顯出淺棕黃色,鉑靶價(jià)格,如果呈藍(lán)色則表示鍍膜的厚度過厚( 〉139nm)。
鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射,鉑靶多少錢,但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會(huì)有殘留的顏色,但殘留顏色哪種是好的,其實(shí)并沒有標(biāo)準(zhǔn),目前主要是以個(gè)人對(duì)顏色的喜好為主,較多為綠色的色系。
我們也會(huì)發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同,因此在鏡片中央部分呈綠色,而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。

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