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真空鍍膜產(chǎn)品長(zhǎng)期暴露在空氣中,面對(duì)酸堿等強(qiáng)腐蝕性物質(zhì)的接觸,磁控濺射廠家,還是難以抵擋。因此,平時(shí)保養(yǎng)維護(hù)時(shí),盡量不選用含強(qiáng)酸強(qiáng)堿或去污能力強(qiáng)的清洗劑,如潔廁精,脫漆劑,金屬清洗劑等,可以選用用絨布輕柔擦拭;如果表面有污垢,也要選用弱酸弱堿來處理。此外,如果長(zhǎng)時(shí)間暴露在惡劣環(huán)境中,或與腐蝕性液體長(zhǎng)時(shí)間接觸,PVD膜層也容易出現(xiàn)脫落等問題,如游泳池(含氟),海水(含鹽分多),高溫高濕(蒸汽)等環(huán)境中。






改進(jìn)工藝后,磁控濺射鍍膜,碎片率從原來的5%減少到3%,加工的晶片厚度可薄至350 μm甚至以下。有時(shí)晶片在裝卸腔里破裂,除吸盤伸出位置及真空大小需要調(diào)節(jié)外,上海磁控濺射,另一個(gè)不容忽視的就是晶片停留裝卸腔的冷卻時(shí)間。當(dāng)晶片從沉積腔旋轉(zhuǎn)到裝卸腔時(shí),磁控濺射制造,因晶片剛沉積了金屬薄膜,表面溫度高,熱應(yīng)力大,晶片變形嚴(yán)重,此時(shí)卸載晶片容易引起破片,所以需要適當(dāng)延長(zhǎng)晶片在卸載腔中的冷卻時(shí)間使之冷卻充分。


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