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表面處理真空法
這種方法是在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過(guò)程。
其主要方法是。
(一)物理l氣相沉積(PVD)在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層的過(guò)程,稱(chēng)為物理l氣相沉積,其沉積粒子束來(lái)源于非化學(xué)因素,如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。
(二)離子注入高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過(guò)程,稱(chēng)為離子注入,如注硼等。
(三)化學(xué)氣相沉積(CVD)低壓(有時(shí)也在常壓)下,氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過(guò)程,稱(chēng)為化學(xué)氣相鍍,番禺合金飾品首飾電鍍哪家便宜,如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。

鍍錫液中加入穩(wěn)定劑是為了防止酸性鍍錫液中的二價(jià)錫水解,因?yàn)樗夂蟮亩r(jià)錫呈乳狀渾濁(有時(shí)這種渾濁包括二價(jià)錫水解也包括光亮劑的氧化分解產(chǎn)物),當(dāng)然在電鍍過(guò)程中,穩(wěn)定劑會(huì)隨鍍液的帶出而需要及時(shí)補(bǔ)充,才能保持酸性光亮鍍錫溶液的穩(wěn)定性。目前市場(chǎng)上的穩(wěn)定劑主要是絡(luò)合劑、抗l氧劑和還原劑的混合物,如異煙酸、硫l酸l亞鐵、酚類(lèi)物質(zhì)等。

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