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磁控真空鍍膜機做漸變色原理

現在很多物件都鍍有漸變色，顏色很絢麗也很顯目，現在很多牌子手機殼也應用了這種漸變色，因此，漸變色也越來越受人們關注，漸變色制作原理也激起了大家的興趣，今天至成小編為大家詳細介紹一下真開工鍍膜機做漸變色的原理和方法，希望能幫助到大家。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。而漸變色的工藝制法一般用的磁控濺射鍍膜設備，目前、聯想等多款手機漸變色外殼都采用了PVD真空漸變鍍膜工藝。

磁控濺射真空鍍膜設備是現有產品在真空條件下鍍膜使用的多的一種設備，一臺完整的磁控濺射真空鍍膜機是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能，從而實現最終的鍍膜，磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機械泵、真空測試系統(tǒng)、油擴散泵、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵以及成膜控制系統(tǒng)等等。

磁控濺射真空鍍膜機的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產品所決定，磁控濺射鍍膜的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結實耐用不生銹等。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

磁控濺射鍍膜成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式，比如固定鍍制時間、目測、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。真空鍍膜機、真空鍍膜設備鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強，膜層的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料。

多弧離子PVD鍍膜設備鍍工藝及應用

離子鍍基本工藝流程

①工件的預熱．

一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對工件進行加熱，而熱陰極離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱，達到預熱的目的，有時電弧離子鍍也采用輔助烘烤加熱裝置對工件進行預熱。

②離子轟擊濺射清洗．

一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負偏壓，利用輝光放電產生的Ar離子轟擊基片，對基片進行離子轟擊濺射清洗，而熱陰極離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽級，Ar離子轟擊基片進行離子轟擊濺射清洗；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱的同時對工件進行離子轟擊濺射清洗。

③離子沉積.

不同的離子鍍方法在離子沉積時，所使用的源和離化方法不同，具體的設備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數也不同，因此，應根據具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數，還應注意在整個沉積過程中保持工藝參數的穩(wěn)定。

真空鍍膜機設備真空鍍膜機系統(tǒng)特點

真空鍍膜機在等離子體束濺射中，濺射離子均勻刻蝕靶面，并且不會使靶面產生氧化。與磁控濺射相比，其中的等離子體束是由射頻等離子體源產生的，磁場的作用則是使等離子體束會聚并偏轉至靶面，因此，雖然等離子體束濺射鍍膜系統(tǒng)內也有磁場，但其磁場卻并不控制影響濺射，這也摒棄了磁控濺射中由磁場不均勻帶來的“磁控”的缺點。在濺射完成后，所得的靶材利用率可高達90%以上。

真空鍍膜機即分別進行磁控濺射和等離子體束濺射之后靶面刻蝕的對比圖。由于靶材的利用率大幅度提高，也解決了磁控濺射中所難以克服的缺點，即靶中的毒導致的刻蝕不均勻

真空鍍膜機此外，磁控濺射由于背面磁鐵磁場不均勻而產生濺射跑道，非磁場約束區(qū)很容易產生氧化，因此很難沉積鐵磁性材料，而等離子體束濺射中由于不用磁鐵作為等離子體約束，能夠進行鐵磁性材料的鍍膜，并且可以使用很厚的靶材，圖3中實驗金屬鈷的厚度即為6mm。對于鐵、鎳、鉻以及鐵磁性化合物，等離子體束濺射也都具有很高的濺射速率。

應用該項鍍膜技術的系統(tǒng)還有一個優(yōu)點，當將電磁線圈的極性反接時，由于磁場的方向產生了變化，等離子體束會在磁場的作用下轟擊基片，從而對基片產生清洗作用,如圖4所示。這實際上可以使得應用該項技術的鍍膜機省略常規(guī)鍍膜機的清洗用離子源。