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鍍膜的工藝種類有哪些不同點？

水電鍍：一般適用于ABS料、ABS+PC料的產(chǎn)品。主要工藝是將需電鍍的產(chǎn)品放入化學電鍍液中進行電鍍。依據(jù)客戶的不同需求，可鍍成不同的色彩，與高光銀色、亞銀色、灰銀，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻。因為電鍍后的產(chǎn)品其導電性顯著增強，關(guān)于某些需絕緣的部件怎么辦？

方法有兩種：其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時就不會被電鍍到，然后到達絕緣作用！當然，涂了絕緣油的部位會變黑，就不適合作為外觀面了。其二，在需電鍍的部位用特別的膠紙貼住，維護起來，同樣到達絕緣的作用。

光學鍍膜機的鍍膜工藝原理

光學鍍膜工藝，已經(jīng)普及到各行各業(yè)，光學薄膜在我們的生活中無處不在，更是被大眾高度認可，據(jù)統(tǒng)計目前光學鍍膜機材料常用品種已達60余種，而且其品種、應用功能還在不斷被開發(fā)。光學鍍膜工藝直接影響這大家的生活習慣，已是人們生活中不可或缺的一部分。

從精密及光學設備、顯示器設備到日常生活中的光學薄膜應用廣泛，和生活息息相關(guān)，比喻平時戴的眼鏡、各式家電用品，數(shù)碼相機，或者是上的防偽技術(shù)，皆能被稱之為光學薄膜技術(shù)應用之延伸。光學薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工，干式就是沒有液體出現(xiàn)在整個加工過程中，例如真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中，以電能加熱固體原物料，經(jīng)升華成氣體后附著在一個固體基材的表面上，完成涂布加工。在實際量產(chǎn)的考慮下，干式涂布運用的范圍小于濕式涂布。濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態(tài)涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。倘若沒有光學薄膜技術(shù)作為發(fā)展基礎，近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無法有所進展，這也顯示出光學薄膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。

真空鍍膜機濺射工藝

真空鍍膜機濺射工藝主要用于真空鍍膜機濺射刻蝕和薄膜沉積兩個方面。濺射刻蝕時，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進行刻蝕?？涛g速率與靶極材料的濺射產(chǎn)額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關(guān)。真空鍍膜機濺射刻蝕時，應盡可能從真空鍍膜機濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發(fā)性氣體，通過真空系統(tǒng)從濺射室中排出。沉積薄膜時，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發(fā)生濺射。如果靶材是單質(zhì)的，則在襯底上生成靶極物質(zhì)的單質(zhì)薄膜；若在濺射室內(nèi)有意識地引入反應氣體，使之與濺出的靶材原子發(fā)生化學反應而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數(shù)千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的，其能量較高，往往比蒸發(fā)原子高出1～2個數(shù)量級，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。

若在濺射時襯底加適當?shù)钠珘海梢约骖櫼r底的清潔處理，這對生成薄膜的臺階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點、低蒸氣壓物質(zhì)膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產(chǎn)生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產(chǎn)生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應用于表面分析儀器中，對樣品進行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機濺射也稱輝光放電濺射。產(chǎn)生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區(qū)。靶極表面必須是一個高的負電位，正離子被此電場加速后獲得動能轟擊靶極產(chǎn)生濺射，同時不可避免地發(fā)生電子對襯底的轟擊。