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目前中國客戶購買的光刻機是什么樣的制程工藝,客戶類型什么?采購有沒有明顯的增加?
國家大力支持半導體行業(yè)的發(fā)展,曝光機價格,客戶以國企扶持或地方扶持居多。整體上看,曝光機哪家好,福建晉華和合肥長鑫這兩家的推進速度較快,但是紫光投資的長江存儲速度偏慢。ASML光刻機的交付進入加速期,已經開建和計劃開建的半導體廠很多都是比較的12寸廠,有很大需求量,曝光機,而ASML在12英寸工藝上擁有的壟斷,所以裝機量是在飛速發(fā)展的。

和川曝光機是用于生產高密度、精度較高的印制電路板圖像轉移的設備,可用于干膜的曝光,也可用于液態(tài)光致阻焊膜、液態(tài)光致抗蝕膜等濕膜的曝光.
配置有:UV能量計算器之曝光量控制系統(tǒng);自我診斷功能及故障提示之監(jiān)控系統(tǒng);干式真空泵浦的真空裝置(正常真空壓力650mm/hg以上)等系統(tǒng).適合于較精度較高的雙面板加工的場合.
