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Foundry在流片時(shí),由于版圖效應(yīng)(LDE),終加工的版圖在尺寸和金屬屬性上會(huì)有偏差。偏差導(dǎo)致實(shí)測(cè)結(jié)果和EDA結(jié)果有差異,所以設(shè)計(jì)階段的EM建模會(huì)不精準(zhǔn),增大流片失敗風(fēng)險(xiǎn)。在工藝上,LDE問題更加顯著。
在EM建模中,如果EM工具能考慮LDE問題,驗(yàn)證就能更接近實(shí)測(cè)值。
Foundry提供的PDK會(huì)有LDE信息,主要是涵蓋下面幾點(diǎn):
(1)
體電阻率隨線寬、線間距不同的差異表;
(2)
方塊電阻隨線寬、線間距不同的差異表;
(3)
線寬隨線間距不同的差異表。


射頻集成電路設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)非常復(fù)雜,難度很大,EM軟件的使用不僅要與其他EDA軟件銜接,還要準(zhǔn)確導(dǎo)入制成工藝信息,電磁sim的設(shè)置也需要考慮很多專業(yè)問題,因此非常需要專業(yè)人員的指導(dǎo)。
北京歐普蘭科技有限公司是一家有十多年歷史的、專業(yè)EDA軟件代理公司,Oplantech有專業(yè)的技術(shù)支持團(tuán)隊(duì),團(tuán)隊(duì)成員也都有的專業(yè)背景,有10年以上的射頻電路設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn),可以為為中國(guó)區(qū)內(nèi)的客戶提供技術(shù)支持服務(wù)。


在 T-coil 的寬度應(yīng)用中,除了上面對(duì)設(shè)計(jì)優(yōu)化的考慮外,一些 T-coil 自身問題也需要在
設(shè)計(jì)中關(guān)注并解決。
(1) 片上 T-coil 往往占據(jù)頂層金屬大量面積,而在頂層電源布線以及非常緊張了,
所以大面積的 T-coil 對(duì)頂層設(shè)計(jì)非常不利;同時(shí),大面積的 T-coil 不僅影響面積
使用率,而且會(huì)產(chǎn)生大量功耗。如果不解決大面積 T-coil 問題,想利用 T-coil 設(shè)
計(jì)多個(gè)高速 IO 口的想法將無法實(shí)現(xiàn)。
(2) T-coil 也存在可靠性問題。對(duì)于 ESD 結(jié)構(gòu)中的 T-coil 也涉及到 ESD 電流路徑, Tcoil 自身的串聯(lián)電阻會(huì)引起較低的 ESD 抵抗力,高功耗會(huì)破壞 T-coil(尤其在 Tcoil 的一些突變拐角處,很容易受到 ESD 破壞)。另外,如果 IO 電路在常規(guī)模式
是大電流情況時(shí), T-coil 可能會(huì)由于電遷移導(dǎo)致破壞。為了提升 T-coil 可靠性,ADC芯片設(shè)計(jì),
需要設(shè)計(jì)較寬的金屬走線,這又使得 T-coil 面積增加了。
下面幾個(gè)例子,討論如何提升 T-coil 可靠性,同時(shí)又減小面積: 



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