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真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點


清洗過程簡化:現(xiàn)有真空鍍膜機PVD涂層鍍膜工藝,多數(shù)均要求事先對工件進行嚴(yán)格清洗,既復(fù)雜又費事。然而,離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用,并且這一作用還一直延續(xù)于整個鍍膜過程。清洗效果良好,能使鍍層直接貼近基體,有效地增強了附著力,簡化了大量的鍍前清洗工作。

可鍍材料廣泛:離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能,從而促進了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而,整個工件,特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣,受到的局限性則較小。通常,各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬,也可在非金屬上鍍金屬或非金屬,甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。


真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍

真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2,可以在這個范圍內(nèi)選擇,有的還可以鍍多層膜,滿足多種需要。日本提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室分為上室,左下室和右下室。蒸鍍時,兩組蒸發(fā)源蒸發(fā)的鍍膜材料分別沉積在塑料薄膜上,在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側(cè),裝上輝光放電發(fā)生器。發(fā)生器產(chǎn)生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜,用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。


電子束鋼帶真空鍍膜機有許多長處有哪些


1、可選擇的鍍膜資料多而不受資料熔點約束。因而,除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫以外,簡直一切的金屬資料都能夠蒸鍍,還可鍍品種許多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為開展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。

2、鍍膜資料利用率高,環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜,沒有有害液體、氣體的發(fā)生。

3、帶鋼鍍膜質(zhì)量好,能取得均勻、滑潤且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱外表活化,鍍膜純度高,沒有中心硬脆的合金層,能夠一次沖壓成型,甚至能夠卷成直經(jīng)很小的管而不掉落鍍層。

4、技能靈敏,改動品種方便,能夠依據(jù)商品請求靈敏地完成在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層,能夠一同鍍兩種資料到達鍍混合膜。鍍膜厚度易于操控,并且能夠鍍制超薄膜。


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