真空離子鍍膜設(shè)備廠家-江門(mén)離子鍍膜設(shè)備-至成鍍膜設(shè)備生產(chǎn)廠家

箱式真空鍍膜機(jī)

采用箱式結(jié)構(gòu)，真空系統(tǒng)后置，便于操作和維修；整機(jī)表面平整，方便清潔，特別適合放置在凈化間內(nèi)做穿墻式安裝。

設(shè)備真空系統(tǒng)抽速大，具有抽氣時(shí)間短，真空度高，生產(chǎn)周期短等優(yōu)點(diǎn)。

采用管狀加熱器上烘烤，烘烤溫度均勻，壽命長(zhǎng)，可達(dá)到烘烤溫度350℃，烘烤均勻性270℃±10℃。

工件轉(zhuǎn)動(dòng)采用上部中心驅(qū)動(dòng)，軸承帶水冷，磁流體密封，轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)可靠。

采用石英晶體膜厚控制儀，可實(shí)現(xiàn)鍍膜過(guò)程的自動(dòng)控制。

采用的鍍膜控制系統(tǒng)，人機(jī)操作界面美觀實(shí)用，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠，可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)操作。

適用范圍:用于生產(chǎn)IR-CUT濾光片、分色濾光片、高反射膜、AR膜、長(zhǎng)波通、短波通和多種電學(xué)薄膜

真空鍍膜機(jī)真空室形變帶來(lái)的影響為盡量減小真空鍍膜機(jī)真空室形變帶來(lái)的影響，我們將導(dǎo)軌、絲桿等傳動(dòng)件固定于一個(gè)剛性的中間層上，其與真空室底壁之間采用點(diǎn)、線、面活性支撐，以吸收和隔離形變，并設(shè)置形變補(bǔ)償調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，在系統(tǒng)抽真，參照有限元計(jì)算提供的理論數(shù)據(jù)預(yù)設(shè)適當(dāng)?shù)难a(bǔ)償量，以使其在真空狀態(tài)下達(dá)到平衡。為了驗(yàn)證有限元計(jì)算的結(jié)果，對(duì)真空室的形變和補(bǔ)償進(jìn)行了測(cè)試。步，將四只千分表定位在工作臺(tái)安裝基點(diǎn)的真空壁外側(cè)，當(dāng)真空室由大氣抽到真空時(shí)，記錄各千分表的變化量，經(jīng)化處理后為用激光自準(zhǔn)直儀調(diào)變補(bǔ)償。

高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問(wèn)題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氣體和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻．?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,而實(shí)際操作困難。主要問(wèn)題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽(yáng)極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國(guó)萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個(gè)問(wèn)題。其原理是一對(duì)靶源互相為陰陽(yáng)極，從而陽(yáng)極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量，若無(wú)冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源。