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電阻蒸發(fā)鍍膜設備介紹

工作原理：真空電阻蒸發(fā)鍍膜設備是在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

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有機熱蒸發(fā)鍍膜機介紹

技術指標：

1. 真空室的極限真空度達5*10-5pa，漏率為關機12小時≤5pa

2. 真空腔內配有集約樣品臺一套，配有大擋板和16套小擋板，鈣鈦礦鍍膜機供應，手動控制，開關方便快捷，每個小擋板擋兩塊30*30mm樣片

3. 蒸發(fā)源共14套，其中10套有機蒸發(fā)源，4套金屬蒸發(fā)源?？販?span style='text-indent:2em;font-size:12px;'>精度±1℃，可以實現溫度或電流補償實現蒸鍍速率穩(wěn)定的功能

4. 金屬蒸發(fā)源配4臺一帶一1000W可控硅調壓電源，通過銅電極連接，兩端可夾鎢絞絲或者鉭舟，鎢絞絲可以蒸鍍絲狀或者大顆粒材料，鉭舟可以蒸鍍粉末狀材料，蒸發(fā)源采用陶瓷全密封，避免交叉污染

5. 有機蒸發(fā)源配10臺一帶一溫控電源，鈣鈦礦鍍膜機批發(fā)，有機源溫度為室溫-500度，可以根據材料及用戶需求自行調節(jié)

6. 樣品臺具有旋轉、升降功能，可在線更換掩膜板一次，可同時裝載30mm*30mm樣品16塊。本產品每兩個樣品都配有小擋板，并且通過PLC控制步進電機對每個小擋板做16個定位，鈣鈦礦鍍膜機，使機械手推拉小擋板，樣品與蒸發(fā)源之間的間距為200-300mm

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電阻蒸發(fā)鍍膜機介紹

通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

在高真空下，采用電阻式蒸發(fā)原理，利用大電流在蒸發(fā)舟上加熱所蒸鍍材料，使其在高溫下熔化蒸發(fā)，從而在樣品上沉積所需要的薄膜。通過調節(jié)所加電流的大小，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率。通常適合熔點低于1500oC的金屬薄膜的制備。

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