沈陽鵬程真空技術(shù)公司-300A蒸發(fā)鍍膜機

多源蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)供應(yīng)電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品，以下信息由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。

主要用途：　　

系統(tǒng)主要用來生長EL OEL分子有機電致發(fā)光器件薄膜的研究工作　　

系統(tǒng)組成:　　

該類設(shè)備為雙室?guī)痔紫浣Y(jié)構(gòu)的有機、無機、多源有機、無機氣相分子沉積設(shè)備，采用直線式結(jié)構(gòu)，由一個金屬材料生長、氧化物生長室、一個有機材料生長室和一個手套箱組成，300A蒸發(fā)鍍膜機公司，金屬材料生長和氧化物生長室以及進(jìn)樣室/氧化物生長室之間通過空氣鎖聯(lián)接，樣品通過帶遠(yuǎn)程手控盒功能的電動磁力耦合裝置在兩個生長室之間手動傳遞?？蛇x手套箱?！　?/span>

多源有機無機蒸發(fā)系統(tǒng)

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主要用途：

用于納米級單層及多層金屬膜、 半導(dǎo)體膜等新材料的制備。廣泛應(yīng)用 于大專院校的薄膜材料科研。

系統(tǒng)組成:

由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺、 真空測量、膜厚測試、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度5.0×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

樣品臺：尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品；

電極：數(shù)量：4支水冷結(jié)構(gòu)；直徑Φ20㎜

樣品基片:，基片在鍍膜位置實現(xiàn)自轉(zhuǎn)?；臏囟葟氖覝刂?00℃

4套擋板系統(tǒng)：基片擋板與源擋板；靶擋板共有3套，300A蒸發(fā)鍍膜機， 樣品擋板（１套）

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)。

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雙靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品特點

1、此款鍍膜儀配置有兩個靶槍：一個靶槍配套的是射頻電源，用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜；一個靶槍配套的是直流電源，用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜

2、該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應(yīng)用非常廣泛。

3、該鍍膜儀體積較小，300A蒸發(fā)鍍膜機哪家好，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。