350型四源有機(jī)無機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)銷售-沈陽鵬程有限公司

300C有機(jī)無機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)

主要用途： 　　

用于制備導(dǎo)電薄膜，半導(dǎo)體薄膜，350型四源有機(jī)無機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)銷售，鐵電薄膜，光學(xué)薄膜等。 　　

系統(tǒng)組成: 　　

該蒸鍍設(shè)計系統(tǒng)主要由真空抽氣及真空測量系統(tǒng)、真空室系統(tǒng)、工件架系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、膜厚測試系統(tǒng)、蒸發(fā)舟擋板系統(tǒng)、烘烤照明系統(tǒng)、水冷卻循環(huán)及報警系統(tǒng)、電控及控制系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)等設(shè)計。 　　

技術(shù)指標(biāo)： 　　

極限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢復(fù)真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圓筒型真空室 ， 　　

蒸發(fā)源：1-4個，350型四源有機(jī)無機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)銷售，采用電阻蒸發(fā)舟、蒸發(fā)藍(lán)、絞絲、束源爐至下向上蒸發(fā)鍍膜。 　

蒸發(fā)溫度：加熱溫度：室溫～1800℃； 　　

蒸發(fā)舟在距中心100～160mm的圓周上；蒸發(fā)舟可上下升降，調(diào)節(jié)幅度0～150mm（樣品中心與坩堝距離150~300mm）； 　

工作架類型及尺寸：樣品托盤直徑Φ300mm，其上可放多個直徑20mm的小樣品；樣品托盤具有自轉(zhuǎn)功能，轉(zhuǎn)速在0～20 轉(zhuǎn)/分鐘，轉(zhuǎn)速可調(diào)；樣品托盤可擺角，角度在0～30度可調(diào)； 　　

烘烤溫度：400℃數(shù)顯自動熱偶控溫（高溫爐盤，數(shù)顯自動熱偶控溫可加熱到700℃） 　　

電阻蒸發(fā)源：電壓5V，10V，功率2.5KW，水冷電極1~4對 　　

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?

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電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)介紹

通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

在高真空下，采用電阻式蒸發(fā)原理，多源有機(jī)無機(jī)熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)銷售，利用大電流在蒸發(fā)舟上加熱所蒸鍍材料，使其在高溫下熔化蒸發(fā)，從而在樣品上沉積所需要的薄膜。通過調(diào)節(jié)所加電流的大小，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率。通常適合熔點低于1500oC的金屬薄膜的制備。

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ZF500有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺、 真空抽氣及測量、膜厚測試 、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度4×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時間：40分鐘可達(dá)6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機(jī)束源爐：數(shù)量：4支，標(biāo)準(zhǔn)型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐。基片的溫度從室溫至600℃（硅片上表面的溫度，只需標(biāo)定一次即可）

4套擋板系統(tǒng)：動密封手動控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

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