高真空電子束鍍膜機(jī)價(jià)格-高真空電子束鍍膜機(jī)-沈陽(yáng)鵬程(查看)

電子束鍍膜機(jī)介紹

* 帶旋轉(zhuǎn)的傾斜沉積

* 行星式基片夾具

* 基片RF/DC偏壓

* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

* 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

* 用于反應(yīng)蒸鍍的MFC

* 不同的泵組選擇，可升級(jí)分子泵為冷泵，前級(jí)泵為干泵

* 進(jìn)樣室和自動(dòng)上下片/可支持單片和25片片夾

以上就是關(guān)于電子束的相關(guān)內(nèi)容介紹，高真空電子束鍍膜機(jī)，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線(xiàn)電話(huà)！

電子束鍍膜與電阻鍍膜的區(qū)別

電子束蒸鍍與利用電阻進(jìn)行蒸鍍的優(yōu)勢(shì)在于：可以為待蒸發(fā)的物質(zhì)提供更高的熱量，高真空電子束鍍膜機(jī)價(jià)格，因此蒸鍍的速率也更快；電子束定位準(zhǔn)確，高真空電子束鍍膜機(jī)哪家好，可以避免坩堝材料的蒸發(fā)和污染。但是由于蒸鍍過(guò)程中需要持續(xù)水冷，對(duì)能量的利用率不高；而且由于高能電子可能帶來(lái)的二次電子可能使殘余的氣體分子電離，也有可能帶來(lái)污染。此外，大多數(shù)的化合物薄膜在被高能電子轟擊時(shí)會(huì)發(fā)生分解，這影響了薄膜的成分和結(jié)構(gòu) 。

期望大家在選購(gòu)電子束產(chǎn)品時(shí)多一份細(xì)心，少一份浮躁，不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問(wèn)。想要了解更多電子束產(chǎn)品的相關(guān)資訊，歡迎撥打圖片上的熱線(xiàn)電話(huà)?。?！

電子束鍍膜原理

想了解更多關(guān)于電子束產(chǎn)品的相關(guān)資訊，請(qǐng)持續(xù)關(guān)注本公司。

電子束蒸鍍是利用加速電子轟擊鍍膜材料，電子的動(dòng)能轉(zhuǎn)換成熱能使鍍膜材料加熱蒸發(fā)，并成膜。電子槍有直射式、環(huán)型和E型之分。電子束加熱蒸鍍的特點(diǎn)是能獲得極高的能量密度，可達(dá)109w/cm2，加熱溫度可達(dá)3000～6000℃，可以蒸發(fā)難熔金屬或化合物;被蒸發(fā)材料置于水冷的坩堝中，可避免坩堝材料的污染，制備高純薄膜；另外，由于蒸發(fā)物加熱面積小，因而熱輻射損失減少，熱效率較高。但結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，且對(duì)較多的化合物，由于電子的轟擊有可能分解，故不適合多數(shù)化合物的蒸鍍。